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Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀--電鏡制樣

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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圓派科學(xué)儀器(上海)有限公司是一家中德合資,專業(yè)致力于工業(yè)測試儀器儀表領(lǐng)域,并提供失效分析和可靠性分析整體方案的供應(yīng)商,公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),無論在售前、售中或售后,始終貫徹“專業(yè)專注、全心服務(wù)”的公司理念。 圓派代理經(jīng)營*的實(shí)驗(yàn)室檢測設(shè)備,無論是技術(shù)經(jīng)驗(yàn)和商業(yè)信用均享有很高的美譽(yù)。圓派客戶包括許多世界企業(yè)以及各種研究院所,所涉及的行業(yè)包括研究院所、鋼鐵、PCB、電子、汽車、五金、塑膠、玻璃、晶體等。

顯微鏡,切割機(jī),硬度計(jì),拋光機(jī),恒溫恒變試驗(yàn)箱,電鏡,切片機(jī),研磨機(jī)

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 100萬-200萬
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子,冶金,制藥
Leica EM TIC 3X  三離子束切割儀
Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀
產(chǎn)品規(guī)格

新版 EM TIC 3X 恪守我們的格言:與用戶合作,使用戶受益”,以注重實(shí)用性的方式將性能和靈活性理想**。 EM TIC 3X 切割速度翻倍,根據(jù)您的應(yīng)用需求提供五種不同的載物臺供您選擇,實(shí)用性得到進(jìn)一步提升。

性能與優(yōu)點(diǎn)

 

1:SiC 研磨紙的橫切面 l 2:膠合板的橫切面 l 3:-120°C 條件下制備的同軸聚合物纖維 (溶于水) l 4:通過 Leica EM TIC 3X (配旋轉(zhuǎn)載物臺) 處理展現(xiàn)的油頁巖 (納米孔),總樣品直徑為 25 mm

 

 

可復(fù)制的結(jié)果

Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面,用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。

使用 Leica EM TIX 3X,您幾乎可以在室溫或冷凍條件下,對任何材料實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的表面處理,盡可能顯示樣品近自然狀態(tài)下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

帶來****的便利!

 

 三離子束切割儀--電鏡制樣

 

 

效率

對于離子束研磨機(jī)的效率來說,**重要的是同時(shí)具備**的品質(zhì)結(jié)果和高產(chǎn)量。與前代版本相比,全新版本不僅切割速度提高了一倍,其*的三離子束系統(tǒng)還優(yōu)化了制備質(zhì)量,并縮短了工作時(shí)間。一次可處理樣品多達(dá) 3 個, 并可在同一個載物臺上進(jìn)行橫切和拋光。

工作流程解決方案可**、**地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。

 

 

 

靈活的系統(tǒng) — 隨時(shí)滿足您的需求

憑借可靈活選擇的載物臺,Leica EM TIC 3X 不僅是進(jìn)行高產(chǎn)量處理的理想設(shè)備,還適用于委托檢測的實(shí)驗(yàn)室。根據(jù)您的需求,可選擇以下可互換的載物臺對 Leica EM TIC 3X 進(jìn)行個性化配置:

  • 標(biāo)準(zhǔn)載物臺
  • 多樣品載物臺
  • 旋轉(zhuǎn)載物臺
  • 冷卻載物臺或
  • 真空冷凍傳輸對接臺

用于制備標(biāo)準(zhǔn)樣品、高產(chǎn)量處理,以及在低溫條件下制備對高溫異常敏感的樣品,例如聚合物、橡膠或生物材料。

 三離子束切割儀--電鏡制樣

 

 

環(huán)境控制型工作流程解決方案

憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對接臺接口,可為易受環(huán)境影響的樣品和/或低溫樣品提供**的刨平工作流程,此類樣品包括

  • 生物材料, 
  • 地質(zhì)材料
  • 或工業(yè)材料。

隨后,這些樣品會在惰性氣體/真空/冷凍條件下,被傳輸至我們的鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)。

 

 

 

標(biāo)準(zhǔn)的工作流程解決方案 — 與 Leica EM TXP 產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng)

在使用 Leica EM TIC 3X 之前,通常需要進(jìn)行機(jī)械準(zhǔn)備工作,以便盡可能接近感興趣區(qū)域。Leica EM TXP 是一種*的標(biāo)靶面拋光系統(tǒng),開發(fā)用于樣品的切割和拋光,為 Leica EM TIC 3X 等儀器進(jìn)行后續(xù)技術(shù)處理做好充分準(zhǔn)備

Leica EM TXP 經(jīng)**設(shè)計(jì),利用鋸切、銑削、研磨和拋光技術(shù)對樣品進(jìn)行預(yù)制。 對于需要**定位以及難以制備的挑戰(zhàn)性樣品,它能提供**的結(jié)果,令處理變得輕松簡單。



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