射線光電子能譜技術(shù)（XPS）是電子材料與元器件顯微分析中的一種*分析技術(shù)，而且是和俄歇電子能譜技術(shù)（AES）常常配合使用的分析技術(shù)。由于它可以比俄歇電子能譜技術(shù)更準(zhǔn)確地測量原子的內(nèi)層電子束縛能及其化學(xué)位移，所以它不但為化學(xué)研究提供分子結(jié)構(gòu)和原子價態(tài)方面的信息，還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成和含量、化學(xué)狀態(tài)、分子結(jié)構(gòu)、化學(xué)鍵方面的信息。它在分析電子材料時，不但可提供總體方面的化學(xué)信息，還能給出表面、微小區(qū)域和深度分布方面的信息。另外，因為入射到樣品表面的X射線束是一種光子束，所以對樣品的破壞性非常小。這一點對分析有機材料和高分子材料非常有利。

X射線光電子能譜分析儀（XPS）技術(shù)指標(biāo)：

　　真控系統(tǒng)性能：5×10-10mbar

　　單色器空間分辨率：≤20microns

　　單色器能量分辨率：：≤0.45eV

　　單色器（大面積）能量分辨率：：400000cps（FWHM≤0.50Ev）

X射線光電子能譜分析儀（XPS）應(yīng)用領(lǐng)域：

   1）對固體樣品的元素成分進行定性、定量或半定量及價態(tài)分析。

   2）固體樣品表面的組成、化學(xué)狀態(tài)分析，廣泛應(yīng)用于元素分析、多相研究、化合物結(jié)構(gòu)鑒定、富集法微量元素分析、元素價態(tài)鑒定。

　3）對氧化、腐蝕、摩擦、潤滑、燃燒、粘接、催化、包袱等微觀機理研究；

   4）分子生物化學(xué)以及三維剖析如界面及過渡層的研究等方面有所應(yīng)用。