JFD-2000是一臺(tái)非接觸式膜厚檢測(cè)儀，采用光學(xué)干涉的原理檢測(cè)膜厚?？梢詼y(cè)量同時(shí)可測(cè)干膜和濕膜。檢測(cè)范圍為0.5微米-100微米。

膜厚測(cè)試儀使用中的一些注意事項(xiàng)：
1.基體金屬特性
對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。
對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與試件基體金屬的電性質(zhì)相似。
2.基體金屬厚度
檢查基體金屬厚度是否超過(guò)臨界厚度，如果沒(méi)有，進(jìn)行校準(zhǔn)后，可以測(cè)量。
3.邊緣效應(yīng)
不應(yīng)在緊靠試件的突變處，如邊緣、洞和內(nèi)轉(zhuǎn)角等處進(jìn)行測(cè)量。
4.曲率
不應(yīng)在試件的彎曲表面上測(cè)量。
5.讀數(shù)次數(shù)
通常由于儀器的每次讀數(shù)并不*相同，因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)讀數(shù)。覆蓋層厚度的局部差異，也要求在任一給定的面積內(nèi)進(jìn)行多次測(cè)量，表面粗造時(shí)更應(yīng)如此。
6.表面清潔度

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