化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學氣相沉積設(shè)備>WBDQC-4 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng),WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜
WBDQC-4 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng),WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜
- 公司名稱 維克特銳(北京)科技有限公司
- 品牌
- 型號 WBDQC-4
- 產(chǎn)地 北京
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2017/3/7 14:00:43
- 訪問次數(shù) 1171
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微波材料學工作站--微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
主要用途:
★該系統(tǒng)既可用作傳統(tǒng)的化學氣相沉積設(shè)備,又可用作微波能化學氣相沉積設(shè)備,同時又是微波等離子化學氣相沉積設(shè)備
★主要為應用在半導體, 大范圍的絕緣材料,大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料,石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域
★該款具有高電離、高電子溫度和電子密度、適用壓強范圍寬、無內(nèi)部電極污染等優(yōu)異性能,微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、化學氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉(zhuǎn)化制氫、長余輝發(fā)光材料、陶瓷燒結(jié)、碳納米管修飾[3]、納米粉體合成、處理水污染等領(lǐng)域
產(chǎn)品特點:
★垂直反應器的設(shè)計可使等離子高密度;對稱的微波發(fā)生器裝置,使產(chǎn)生的等離子環(huán)境更均勻
★諧振腔內(nèi)沒有內(nèi)部電極,可以避免電極放電所產(chǎn)生的污染,而且,它的運行氣壓范圍比較寬,所產(chǎn)生等離子體密度高、區(qū)域大,穩(wěn)定性高,且不與真空器接觸,從而避免了器壁對薄膜的污染
★操作便捷:氣路連接方式采用了KF快速連接法蘭結(jié)構(gòu),使取放物料過程簡化,只需一支卡箍便可完成氣路連接,方便操作,取消了復雜的法蘭安裝過程,減少了安裝造成的損壞
★多功能:4種加熱方式可選可變:微波等離子、純微波、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱;適應包括金屬與合金在內(nèi)非易燃的任何樣品的熱處理
★雙溫區(qū)結(jié)構(gòu):上部等離子區(qū)或加熱區(qū)下部樣品臺加熱區(qū)
★*開發(fā)的微波場傳感器,精準控溫
★安全:*采用防止泄漏的聯(lián)鎖保護屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔體設(shè)計,多重防泄漏保護
*標配裝有專業(yè)微波抑制器
*內(nèi)置微波泄漏傳感器
★節(jié)能:使用壽命長:磁控管微波加熱,避免和解決了傳統(tǒng)的加熱絲、硅碳棒、硅鉬棒等加熱元件容易損壞的問題,也避免了因加熱元件損壞而造成的時間、實驗進度、維修費用等各種損失
★采用無級可調(diào)、高穩(wěn)定度長壽命、連續(xù)波微波源,確保設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定長時間運行
★嵌入式微機一體化溫度控制系統(tǒng);實現(xiàn)穩(wěn)定性控溫
★無須烘爐過程:爐腔整體自身發(fā)熱,加熱均勻
★微波能量即開即有,無熱慣性,易于控制溫度
★配有萬向輪調(diào)節(jié)底腳,方便移動和固定
技術(shù)參數(shù):
型號/model | WBDQC-4 | |
可加熱材料 | 非易燃易爆的任何材料 | |
微波頻率 | 2.45GHZ±50MHz | |
加熱方式 | 等離子加熱、純微波加熱、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱 | |
zui大功率/ KW(連續(xù)、可調(diào)) | 4 | |
樣品腔長度 | 標配100mm可根據(jù)用戶需求訂制 | |
加熱樣品腔(材質(zhì)) | 石英管(微波等離子工作模式) | 石英管&剛玉管(其它加熱方式) |
控溫范圍/℃ | 1100℃石英樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可選; | 1500℃剛玉樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm 可選; |
溫度測試元件 | 微波場傳感器 | |
溫度分辨率/℃ | 0.1 | |
樣品臺zui高溫度范圍 | 室溫-1200℃、更高溫度可選配 | |
控溫精度/℃ |
1200℃以下±1;1200℃以上±2℃ | |
溫度偏差/℃ | ||
溫度穩(wěn)定波動度/℃ | ||
冷卻方式 | 風冷 | |
恒溫區(qū)長度/mm | 標配100mm可根據(jù)用戶需求訂制 | |
升溫速率(標配) | 0~200℃/min(微波等離子工作模式除外) 任意設(shè)定,可編程、分段加熱 | |
溫度控制方式 | 10段可設(shè)工藝參數(shù),7寸觸摸屏操作,帶數(shù)據(jù)存儲功能;提供手動、自動、恒溫控制模式,曲線實時顯示 | |
控制氣體 | 控制氣體:H2、CH4、Ar、N 2 、其它氣體可選 | |
流量控制 | 標配 2 套質(zhì)量流量控制器:七星華創(chuàng)(真空保護閥門后置,匹配真空模式);精度:0.8% | |
zui大耐壓 | 1MPa;控制響應時間:10ms | |
真空系統(tǒng)真空泵 | RVP2008;壓力范圍:10 -3 Torr~760 Torr zui大抽速:8.5m 3 /h | |
真空計 | 數(shù)顯真空計:1atm-10 -1 Pa | |
標配 | 質(zhì)量流量自動控制系統(tǒng)配備控制計算機及控制軟件,可以內(nèi)置實時顯示和保存生長參數(shù) | |
氣路其他配置 | 氣柜、氣路及閥門等 | |
端口 | 不銹鋼 KF50 法蘭接口 | |
電源電壓(V) | 220 | |
微波泄漏量/ mW/㎝2 | ≤0.4 | |
外型尺寸(長´寬´高)/mm | 1100×750×1900 | |
提供相關(guān)配件 | 高溫手套×1 |
選配功能:
質(zhì)量流量控制系統(tǒng);美國Alicat質(zhì)量流量&控制器