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Microwriter ML3 小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

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  • 我們是誰(shuí)

    美國(guó)Quantum Design公司是科學(xué)儀器制造商,其研發(fā)生產(chǎn)的系列磁學(xué)測(cè)量系統(tǒng)及綜合物性測(cè)量系統(tǒng)已成為業(yè)內(nèi)進(jìn)的測(cè)量平臺(tái),廣泛分布于全球材料、物理、化學(xué)、納米等研究域的科研實(shí)驗(yàn)室。Quantum量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司(暨Quantum Design中國(guó)子公司) 成立于2004年,是美國(guó)Quantum Design公司設(shè)立的諸多子公司之,在全權(quán)負(fù)責(zé)美國(guó)Quantum Design公司本部產(chǎn)品在中國(guó)的銷售及售后技術(shù)支持的同時(shí),還致力于和范圍內(nèi)物理、化學(xué)、生物域的科學(xué)儀器制造商進(jìn)行密切合作,幫助中國(guó)市場(chǎng)引進(jìn)更多全球范圍內(nèi)的質(zhì)設(shè)備和技術(shù),助力中國(guó)科學(xué)家的項(xiàng)目研究和發(fā)展。

  • 我們的理念

    Quantum Design中國(guó)的長(zhǎng)期目標(biāo)是成為中國(guó)與進(jìn)行進(jìn)技術(shù)、進(jìn)儀器交流的重要橋頭堡。助力中國(guó)科技發(fā)展的十幾年中,Quantum Design中國(guó)時(shí)刻保持著積進(jìn)取、不忘初心、精益求精的態(tài)度,為中國(guó)科學(xué)家提供更質(zhì)的科學(xué)和技術(shù)支持。隨著中國(guó)科學(xué)在舞臺(tái)變得愈加舉足輕重,Quantum Design中國(guó)將繼續(xù)秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中國(guó)科技蓬勃發(fā)展,助力中國(guó)科技在騰飛!

  • 我們的團(tuán)隊(duì)

    Quantum Design中國(guó)擁有支具備強(qiáng)大技術(shù)背景、職業(yè)化工作作風(fēng)的團(tuán)隊(duì),并致力于培養(yǎng)并引進(jìn)更多博士業(yè)技術(shù)人才。目前公司業(yè)務(wù)團(tuán)隊(duì)高學(xué)歷業(yè)碩博人才已占比超過(guò)70%以上,高水平人才的不斷加入和日益密切的團(tuán)隊(duì)配合幫助QD中國(guó)實(shí)現(xiàn)連續(xù)幾年銷售業(yè)績(jī)的持續(xù)增長(zhǎng)

  • 我們的服務(wù)


  • Quantum Design中國(guó)擁有完善的本地化售前、售中和售后服務(wù)體系。國(guó)內(nèi)本地設(shè)有價(jià)值超過(guò)50萬(wàn)美元的備件庫(kù),用于加速售后服務(wù)響應(yīng)速度;同時(shí)設(shè)有超過(guò)300萬(wàn)美元的樣機(jī)實(shí)驗(yàn)室,支持客戶對(duì)設(shè)備進(jìn)行進(jìn)步體驗(yàn)和深度了解。 “不僅提供超的產(chǎn)品,還提供超的售后服務(wù)”這將是Quantum Design中國(guó)區(qū)別于其他科研儀器供應(yīng)商的重要征,也正成為越來(lái)越多科學(xué)工作者選擇Quantum Design中國(guó)的重要原因。



PPMS,MPMS,低溫磁學(xué),表面成像,樣品制備,生命科學(xué)儀器

產(chǎn)地類別 進(jìn)口

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小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng) 

 

    小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Microwriter ML3是英國(guó)Durham Magneto Optics公司為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究域提供方便高效的微加工方案。

    傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法,克服了這問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過(guò)電腦控制系列激光脈沖的開(kāi)關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

ML3.jpg

    Microwriter ML3 是款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

 

產(chǎn)品點(diǎn)  

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 
Focus Lock技術(shù)是用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。
光學(xué)輪廓儀 
Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

focuslock.png

Profiometer.png

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別
點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。
直寫前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。

Bullseye.png

VMA.png

簡(jiǎn)單的直寫軟件

MicroWriter 由個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 

可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

書寫范圍只由基片尺寸決定

software.png

 clewin.jpg

 

產(chǎn)品參數(shù) 

Microwriter ML3基本型增強(qiáng)型旗艦型
 大樣品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
 大直寫面積149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
 曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 適用于SU-8 
(365+405nm雙光源可選)
 直寫分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直寫速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭x10x3 and x10 自動(dòng)切換x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
 多層套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
 小柵格精度200nm200nm100nm
 樣品臺(tái)小步長(zhǎng)100nm100nm50nm
 光學(xué)輪廓Z分辨率無(wú)(可升)300nm100nm
 樣品表面自動(dòng)對(duì)焦
 灰度直寫(255)
 自動(dòng)晶片檢查工具無(wú)(可升)
 溫控樣品腔室無(wú) (可升)無(wú) (可升)
 虛擬模板校準(zhǔn)工具無(wú)(可升)無(wú)(可升)
 氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)無(wú)(可升)無(wú)(可升)

 

應(yīng)用案例

 

直寫分辨率1μm

resolution1.png

 

直寫分辨率0.6μm

resolution0_6.png

 

微電制備 

光刻膠上的圖形  Au電 (SEM) Au電(SEM) 
microelectrode1.jpgmicroelectrode2.jpgmicroelectrode3.jpg
設(shè)計(jì)圖 光刻膠上的圖形   放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
microelectrode2-design2.jpgmicroelectrode2-1.jpgmicroelectrode2-2.jpg

 

微結(jié)構(gòu)制備

microstructure1.jpgmicrostructure2.jpg
microstructure2-1.jpgmicrostructure2-2.jpg

 

微流通道制備 

microfluid1.jpgmicrofluid2.jpg

 

其他相關(guān)產(chǎn)品 

3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)



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