ICP-MS 2000 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀
參考價(jià) | ¥ 19 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 江蘇鴻瑞檢測(cè)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào) ICP-MS 2000
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/5/14 9:00:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 704
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天瑞EDX1800B ROHS鹵素檢測(cè)儀器、 X熒光光譜儀、有害元素檢測(cè)儀器、玩具八大重金屬檢測(cè)儀器、手持式合金分析儀、原子吸收光譜儀、不銹鋼銅合金檢測(cè)儀器、ROHS2.0 鄰苯二甲酸檢測(cè)儀、成份分析儀器、鍍層膜厚測(cè)儀器
電感耦合等離子體質(zhì)譜儀介紹
ICP2000是天瑞儀器公司經(jīng)多年技術(shù)積累而開(kāi)發(fā)的電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,用于測(cè)定各種物質(zhì)(可溶解于鹽酸、硝酸、氫氟酸等)中常量、微量、痕量金屬元素或非金屬元素的含量。采用*的電子電路系統(tǒng)和網(wǎng)絡(luò)接口的通信方式,實(shí)現(xiàn)了儀器的尋峰、測(cè)試、譜圖描跡快速簡(jiǎn)便化操作,自動(dòng)化程度高、操作簡(jiǎn)便、穩(wěn)定可靠,使結(jié)果準(zhǔn)確度更高,人性化設(shè)計(jì)的儀器操作界面,可針對(duì)不同元素、不同波長(zhǎng)設(shè)置的測(cè)試條件,并有儀器診斷功能,提高儀器的智能化操作。
電感耦合等離子體質(zhì)譜儀性能特點(diǎn)
1.可測(cè)元素70多種
2.分析速度快,一分鐘可測(cè)5-8個(gè)元素
3.多元素同時(shí)分析,客戶可以自由選擇元素?cái)?shù)量與安排測(cè)量順序
4.檢出限低,達(dá)到ppb量級(jí),Ba甚至達(dá)到0.7ppb
5.線性動(dòng)態(tài)范圍寬,高達(dá)6個(gè)數(shù)量級(jí),高低含量可以同時(shí)測(cè)量
6.分析成本低,一瓶氬氣可以用8個(gè)小時(shí)
7.全自動(dòng)化設(shè)計(jì),除電源開(kāi)關(guān)外,儀器全部功能由軟件控制。
8.網(wǎng)絡(luò)接口通訊方式,大大提升了通信速度,屏蔽了高頻的干擾。
9.配備進(jìn)口玻璃霧化器,霧化效率好,性能更穩(wěn)定。
10. 軟件通過(guò)質(zhì)量流量控制器(MFC)來(lái)控制三路氣體流量。
11. 點(diǎn)火方式:軟件控制點(diǎn)火,有點(diǎn)火位置記憶功能,匹配位置記憶功能。
12.*的儀器診斷功能,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀器工作狀態(tài)。
13.獨(dú)立開(kāi)發(fā),具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的分析軟件,人性化的操作界面,中英文界面的快速切換,自動(dòng)生成分析報(bào)告。
技術(shù)指標(biāo)
射頻發(fā)生器技術(shù)指標(biāo):
1.電路類型:自激振蕩電路,同軸電纜輸出,匹配調(diào)諧,功率反饋閉環(huán)自動(dòng)控制。
2.工作頻率:40.68MHz±0.05%
3.頻率穩(wěn)定性:<0.1%
4.輸出功率:800W—1200W
5.輸出功率穩(wěn)定性:<0.2%
6.電磁場(chǎng)泄漏輻射強(qiáng)度:距機(jī)箱30cm處電場(chǎng)強(qiáng)度E:<10V/m ;磁場(chǎng):H<0.2A/m。
進(jìn)樣裝置技術(shù)指標(biāo):
1.輸出工作線圈:銅質(zhì),帶有聚四氟乙烯外套,內(nèi)徑25mm,3匝。
2.矩管:三同心型,外徑20mm的石英矩管
3.同軸型噴霧器:外徑6mm
4.雙筒形霧室外徑:35mm
5.氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格:
(1)等離子氣流量計(jì) :0.0-20.0L/min
(2)輔助氣流量計(jì): 0.0-1.0L/min
(3)載氣流量計(jì):0.0-1.0L/min
(4)載氣穩(wěn)壓閥:0-0.4MPa
(5)冷卻水:水溫20-25℃ 流量>7L/min 水壓>0.1MPa ,冷卻水電阻率大于1MΩ。
分光器技術(shù)指標(biāo):
1.光路:Czerny-Turner
2.焦距: 1000 mm
3.光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度3600線/mm(可選用刻線密度2400線/mm),刻劃面積(80×110)mm
4.線色散率倒數(shù):0.26nm/mm
5.分辨率:≤ 0.008nm(3600刻線). ≤0.015nm(2400刻線)
6.掃描波長(zhǎng)范圍: 3600線/mm掃描波長(zhǎng)范圍:190—500 nm ; 2400線/mm掃描波長(zhǎng)范圍:190—800 nm
7.步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)zui小步距:0.001 nm
8.入射狹縫:25μm;出射狹縫:18μm
9.透鏡:Φ30,1:1成像
10. 反射鏡規(guī)格:(80×105)mm
測(cè)光裝置:
1.光電倍增管規(guī)格:R212或R928
2.光電倍增管負(fù)高壓: (-50~-1000)V
3.光電倍增管電流測(cè)量范圍: (10~12~10~4)A
4.信號(hào)采集方式: V/F轉(zhuǎn)換
5.采樣電路:1mv對(duì)應(yīng)頻率100Hz;
6.儀器數(shù)據(jù)采集: 計(jì)數(shù)方式
7.測(cè)光方式:垂直觀測(cè)
標(biāo)準(zhǔn)配置
1.ICP2000主機(jī)1臺(tái)
穩(wěn)壓電源1臺(tái)
自動(dòng)控溫冷卻循環(huán)水裝置1臺(tái)
2.附件箱
應(yīng)用領(lǐng)域
金屬材料(包括貴金屬、稀有金屬)、非金屬材料、礦石、土壤、核燃料、煤、石油及其產(chǎn)品、化肥、化工原料、半導(dǎo)體晶片、陶瓷材料、食品、藥品、血液、水(純水、廢水)、空氣等幾乎所有材料中雜質(zhì)(或粒子)的測(cè)定。