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2024
12-072024
11-292024
11-29PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)的工作原理與特點(diǎn)介紹
意大利PSI公司生產(chǎn)的高壓微射流均質(zhì)機(jī)按高標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥級(jí)別設(shè)計(jì)而成，在高壓力、高處理量的前提下依舊能夠保持超低運(yùn)行噪音，其小巧緊湊的機(jī)身適應(yīng)實(shí)驗(yàn)室、小規(guī)模生產(chǎn)及中試、中等規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境；全系產(chǎn)品模塊化設(shè)計(jì)，均可通過核心配件的串、并聯(lián)組裝升級(jí)為大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)備。由PSI研發(fā)的均質(zhì)腔可高效處理樣品并確保工藝流程穩(wěn)定，使得每一步操作均能獲得標(biāo)準(zhǔn)化的結(jié)果，為實(shí)驗(yàn)放大生產(chǎn)提供可靠支持。PSI-20高壓微射流均質(zhì)機(jī)（小試兼中試型）采用固定結(jié)構(gòu)的均質(zhì)腔，通過電液傳動(dòng)的增壓器使物料在高壓作用下以極大的速度流經(jīng)交互容腔2024
11-23日本HM&M的UAM機(jī)型珠磨機(jī)表現(xiàn)出了哪些優(yōu)勢(shì)？
常見分散方法的球磨法或砂磨機(jī)，在分散時(shí)物料、磨珠與機(jī)體之間的撞擊會(huì)對(duì)納米晶、混懸劑中的納米顆粒造成損傷，磨損的材料進(jìn)入料液中會(huì)變成難以除去的雜質(zhì)，這對(duì)料液的純度產(chǎn)生不利的影響，此外，機(jī)械力過大時(shí)局部升溫過快，也會(huì)導(dǎo)致物料的不穩(wěn)定，影響后續(xù)的使用。日本HM&M的UAM機(jī)型珠磨機(jī)采用立式珠磨設(shè)計(jì)，使得流經(jīng)腔體的物料能獲得充分的珠磨分散和破碎，獲得更為均一體系。同時(shí)，UAM機(jī)型珠磨機(jī)采用離心式磨珠分離器應(yīng)對(duì)微珠分離，利用離心力將磨珠和漿液分離，因此不需要考慮漿液出口處的間隙大小，即使是使用微珠，也不會(huì)2024
11-23大顆粒（LPC）對(duì)拋光效率和良品率的影響 — TEOS層的CMP拋光研究
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共6324字，閱讀大約需要21分鐘引言：LPC對(duì)CMP制程工藝的影響隨著半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展，作為重要工藝段的CMP獲得了廣泛的關(guān)注。而作為此工藝段的重要原料-CMPslurry，更是諸多學(xué)者研究的對(duì)象。本文將重點(diǎn)結(jié)合Liu團(tuán)隊(duì)2018年在ECS發(fā)布的論文：《EffectsofLargeParticlesonMRR,WIWNUａndSurfaceQualityinTEOSChemicalMechanicalPolishingBasedonFA/OAlkaline2024
11-222024
11-182024
11-12兩種測(cè)定膠體穩(wěn)定性的分析新技術(shù):SPOS和空間時(shí)間消光譜圖分析法
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共3215字，閱讀大約需要12分鐘引言：膠體穩(wěn)定性分析技術(shù)本文主要探討了膠體懸浮液的穩(wěn)定性控制問題。膠體懸浮液在藥物輸送、軟飲料制造、涂層、拋光等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，其穩(wěn)定性對(duì)產(chǎn)品性能、保質(zhì)期、生產(chǎn)效率和成本控制至關(guān)重要。文章介紹了單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)（SPOS）技術(shù)和加速離心分析結(jié)合空間光譜（STEP）分析技術(shù)在膠體穩(wěn)定性分析中的作用，SPOS技術(shù)可精確測(cè)量粒子大小和濃度，加速離心分析結(jié)合STEP技術(shù)，空間-時(shí)間消光譜圖快速評(píng)估膠體穩(wěn)定性。通過對(duì)碳酸鈣漿液、軟飲乳液2024
11-12一種利用商用研磨液顆粒評(píng)估CMP過濾器攔截效率的新方法
本文隸屬于一體化解決方案系列，全文共2831字，閱讀大約需要11分鐘摘要：化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）研磨液（Slurry，漿料）包含少量大顆粒（LPC），會(huì)在晶圓表面造成微劃痕。在不改變工作顆粒分布的情況下，從高固含量的研磨液中捕獲大顆粒是研磨液過濾器面臨的主要挑戰(zhàn)之一。過濾器性能評(píng)估常用聚苯乙烯乳膠（PSL）標(biāo)準(zhǔn)顆粒來確定顆粒攔截效率，PSL在低固含量時(shí)具有良好的分辨率。然而，當(dāng)模擬高固含量溶液，如CMP研磨液時(shí)，其分辨率不高。因此，開發(fā)一種新方法來填補(bǔ)這一技術(shù)空白是至關(guān)重要的。本研究主要通過使2024
11-122024
10-26在線計(jì)數(shù)粒徑檢測(cè)儀的保養(yǎng)是很有講究的
在線計(jì)數(shù)粒徑檢測(cè)儀是一種精密的測(cè)量設(shè)備，它主要用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)流體（如空氣、水或其他液體）中顆粒的數(shù)量、大小以及粒徑分布。工作原理主要基于激光散射、光衍射或其他光學(xué)原理。當(dāng)激光束照射到流經(jīng)傳感器的流體中的顆粒時(shí)，顆粒會(huì)散射光線。儀器通過測(cè)量散射光的強(qiáng)度、角度或分布，可以推算出顆粒的大小和數(shù)量。在線計(jì)數(shù)粒徑檢測(cè)儀的保養(yǎng)方法如下：1、安全操作工作環(huán)境要求：確保儀器放置在穩(wěn)定、無強(qiáng)烈振動(dòng)和電磁干擾的環(huán)境中，保持環(huán)境干凈整潔。避免在有灰塵、腐蝕性氣體等惡劣環(huán)境中使用，以免影響儀器的性能和測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。電2024
10-08了解高壓微射流均質(zhì)機(jī)的原理以及應(yīng)用
意大利PSI公司生產(chǎn)的高壓微射流均質(zhì)機(jī)按高標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥級(jí)別設(shè)計(jì)而成，在高壓力、高處理量的前提下依舊能夠保持超低運(yùn)行噪音，其小巧緊湊的機(jī)身適應(yīng)實(shí)驗(yàn)室、小規(guī)模生產(chǎn)及中試、中等規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境；全系產(chǎn)品模塊化設(shè)計(jì)，均可通過核心配件的串、并聯(lián)組裝升級(jí)為大規(guī)模生產(chǎn)設(shè)備。由PSI研發(fā)的均質(zhì)腔可高效處理樣品并確保工藝流程穩(wěn)定，使得每一步操作均能獲得標(biāo)準(zhǔn)化的結(jié)果，為實(shí)驗(yàn)放大生產(chǎn)提供可靠支持。用于研發(fā)、中試及生產(chǎn)。高壓微射流均質(zhì)機(jī)原理：通過增壓器使物料在高壓作用下以速度流經(jīng)微管通道，并進(jìn)入微米級(jí)固定均質(zhì)腔，物料流在此過2024
10-08高壓微射流均質(zhì)機(jī)是如何實(shí)現(xiàn)均質(zhì)和分散過程的？
高壓微射流均質(zhì)機(jī)利用高壓技術(shù)將流體物質(zhì)細(xì)化成微小的射流，并通過高速運(yùn)動(dòng)的射流實(shí)現(xiàn)混合和均質(zhì)化的目的。具體來說，它通過高壓氣體將液體樣品從微小的噴頭噴出，形成微小射流，在高速氣流中快速破碎、剪切、撞擊和摩擦，將樣品分解成納米粒子，實(shí)現(xiàn)均質(zhì)和分散的過程。該設(shè)備具有以下優(yōu)勢(shì)：1、高效能、高壓力：能夠?qū)⒘黧w在數(shù)百M(fèi)Pa的高壓力下，以數(shù)百米每秒的高線速度強(qiáng)制通過微小孔道，實(shí)現(xiàn)顆粒的微納米級(jí)別均質(zhì)和分散，有效提高了產(chǎn)品的穩(wěn)定性和質(zhì)量。2、模塊化設(shè)計(jì)：可根據(jù)客戶的需求和生產(chǎn)工藝進(jìn)行定制配置，靈活的設(shè)計(jì)使其適用2024
09-21想了解清潔度檢測(cè)儀的技術(shù)特點(diǎn)嗎？不妨看看這里！
清潔度檢測(cè)儀（或稱為清潔度測(cè)試儀、清潔度分析儀）是一種用于檢測(cè)工業(yè)制造過程中零件、設(shè)備、油品及其他材料表面清潔度的儀器。通過測(cè)量待測(cè)物體表面殘留的污染物，如顆粒、油脂、金屬切屑、微生物（如ATP含量）等，來判斷其清潔程度是否符合要求。它廣泛應(yīng)用于汽車制造、航空航天、電子設(shè)備、制藥、食品加工等多個(gè)領(lǐng)域，以確保產(chǎn)品的性能、可靠性及安全性。清潔度檢測(cè)儀的技術(shù)特點(diǎn)：1、高精度測(cè)量高倍率金相顯微鏡：采用全進(jìn)口3D掃描臺(tái)和高倍率金相顯微鏡，支持多種清潔度進(jìn)行測(cè)試技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。這種高精度的光學(xué)設(shè)備能夠提供清晰的圖2024
09-192024
09-13高壓微射流均質(zhì)機(jī)在哪些領(lǐng)域的應(yīng)用比較廣泛？
高壓微射流均質(zhì)機(jī)主要用于處理各種液體、半固體以及懸浮液，通過高壓和微射流技術(shù)來實(shí)現(xiàn)這些物質(zhì)的均勻混合、細(xì)化分散、均質(zhì)化以及乳化等效果。工作原理是利用高壓泵將物料送入微射流均質(zhì)腔中，在高速噴射和撞擊的作用下，物料受到強(qiáng)烈的剪切力、撞擊力和空穴效應(yīng)的影響，從而實(shí)現(xiàn)均質(zhì)化、乳化和分散等效果。該技術(shù)具有高效、精準(zhǔn)、可控性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。食品工業(yè)：在食品工業(yè)中，高壓微射流均質(zhì)機(jī)常被用于乳制品（如牛奶、酸奶、奶酪等）的均質(zhì)化處理，以提高產(chǎn)品的口感、穩(wěn)定性和保質(zhì)期。同時(shí)，它也可以用2024
08-30為什么檢測(cè)CMP研磨液的Large Particle Count（LPC）如此重要？
摘要：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計(jì)數(shù)（LPC）對(duì)確保晶圓表面質(zhì)量和提高產(chǎn)品良率至關(guān)重要。隨著工藝向更小納米級(jí)發(fā)展，對(duì)LPC的檢測(cè)精度要求更高。文章討論了LPC檢測(cè)的技術(shù)難點(diǎn)，包括高濃度樣品干擾和大顆粒計(jì)數(shù)量化問題，并提出了自動(dòng)稀釋技術(shù)和高靈敏度的單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)（SPOS）作為解決方案。此外，文章還探討了LPC對(duì)CMP工藝的影響，包括表面平整度、拋光速率和設(shè)備損耗，并提供了從原材料到CMPslurry制造端的整套LPC監(jiān)控方案，以優(yōu)化工藝參數(shù)和2024
08-222024
08-20過濾效率檢測(cè)儀有何特點(diǎn)呢？不妨看看下文！
過濾效率檢測(cè)儀是一種專門用于測(cè)量和評(píng)估過濾材料或過濾器對(duì)顆粒物、氣溶膠等污染物過濾效率的儀器。它廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、紡織科學(xué)技術(shù)、安全科學(xué)技術(shù)、空氣凈化、醫(yī)療、制藥、食品、電子、化工等多個(gè)領(lǐng)域。過濾效率檢測(cè)儀通過模擬實(shí)際工作環(huán)境，向測(cè)試系統(tǒng)中釋放一定量的顆粒物或氣溶膠，這些顆粒物經(jīng)過待測(cè)的過濾材料或過濾器后，其濃度的變化會(huì)被高精度的檢測(cè)裝置（如光度計(jì)、顆粒物計(jì)數(shù)器等）實(shí)時(shí)記錄。通過對(duì)比過濾器前后的顆粒物濃度，可以計(jì)算出過濾材料或過濾器的過濾效率。過濾效率檢測(cè)儀的產(chǎn)品特點(diǎn)：1、高精度：能夠精確測(cè)量2024
08-12掃一掃訪問手機(jī)商鋪
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