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紫外光刻機(jī)新一代紫外光源：172nm，具有同類產(chǎn)品良好的輸出強(qiáng)度，3%的可用孔徑，弧光燈使用壽命更長。暴露高達(dá)30000次，瞬間啟動(dòng)，無需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無需主動(dòng)冷卻和外部冷卻，無有毒氣體和汞等物質(zhì)。高光能轉(zhuǎn)換率（EVU僅為0.02%），節(jié)能；傳統(tǒng)的UV處理會(huì)存在以上問題。光刻操作可以在幾分鐘內(nèi)完成，維護(hù)簡單，幾乎不需要培訓(xùn)。
1、微米級高分辨率投影光刻。
2、實(shí)現(xiàn)無遮罩任意圖案書寫，所見即所得，即時(shí)。
3、200mm行程拼接，100nm拼接精度。
4、視覺引導(dǎo)光斑，支持雕刻。
5、全自動(dòng)操作，圖形縮放、旋轉(zhuǎn)、定位、掃描、拼接均由軟件完成。
紫外光刻機(jī)紫外投影光刻技術(shù)將特定形狀的光斑投射到涂在器件表面的光刻膠上。光刻膠的照射區(qū)域會(huì)產(chǎn)生化學(xué)變化。曝光顯影后，可形成微米級精密圖案；通過進(jìn)一步的蝕刻或蒸發(fā)，可以在樣品表面形成所需的結(jié)構(gòu)。UV投影光刻作為材料、器件、微結(jié)構(gòu)和微器件的常用制備技術(shù)，廣泛應(yīng)用于微納米結(jié)構(gòu)制備、半導(dǎo)體器件電極制備、太赫茲/毫米波器件制備、光學(xué)掩模制備、PCB制造等應(yīng)用。
傳統(tǒng)的UV投影光刻機(jī)需要先制作掩模版，耗材成本高，制備周期長，難以滿足材料和器件實(shí)驗(yàn)室對靈活性和實(shí)驗(yàn)進(jìn)度的要求。近年來開發(fā)的紫外光刻機(jī)技術(shù)突破了這一技術(shù)限制，實(shí)現(xiàn)了任意形狀編程和全自動(dòng)高精度大面積拼接的無掩模光刻，隨時(shí)將您的設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為實(shí)際的成品，大大減少了開發(fā)和測試周期，強(qiáng)有力的助攻微納器件制備的“臨門一腳”。
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