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光纖光譜儀通常采用光纖作為信號耦合器件，將被測光耦合到光譜儀中進行光譜分析。由于光纖的方便性，用戶可以非常靈活的搭建光譜采集系統(tǒng)。
光纖光譜儀以其檢測精度高、速度快等優(yōu)點，已成為光譜測量學中使用的重要測量儀器，被廣泛應用于農(nóng)業(yè)、生物、化學、地質(zhì)、食品安全、色度計算、環(huán)境檢測、醫(yī)藥衛(wèi)生、LED檢測、半導體工業(yè)、石油化工等領域。
1、發(fā)射光譜測量
發(fā)射光譜測量可以用不同的實驗布局和波長范圍來實現(xiàn)，還要用到余弦校正器或積分球。發(fā)射光譜測量可以在紫外/可見和可見/近紅外波長范圍內(nèi)測量。
對于發(fā)射光譜的測量，光譜儀可以配置成波長范圍從200-400nm或350-1100nm，或組合起來實現(xiàn)紫外/可見200-1100nm，并可以在定標實驗室里進行輻射定標。定標后的實驗布局不能改變，如光纖和勻光器都不能更改。
2、發(fā)光二極管(LED)測量
LED測量系統(tǒng)用于LED光源的光譜強度及顏色指標測量。較簡單而且迅速地測量LED的整個光通量的方法就是使用一個積分球，并把它連接到一個光譜儀上。該系統(tǒng)可以用鹵素燈進行定標(LS-1-CAL-INT)，然后用從測量到的光譜分布計算出相關參數(shù)，并實現(xiàn)輻射量的測量。
3、薄膜厚度測量
光學的膜厚測量系統(tǒng)基于白光干涉測量原理，可以測量的膜層厚度10nm-50μm，分辨率為1nm。薄膜測量在半導體晶片生長過程中經(jīng)常被用到，因為等離子體刻蝕和淀積過程需要監(jiān)控；其它應用如：在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學膜層也需要測量膜層厚度。
4、透射吸收測量
透射吸收測量用于測定液體或氣體中介質(zhì)對作用光的吸收，依據(jù)比耳定律，吸光度正比于摩爾吸收率、光程和樣品介質(zhì)濃度。
5、反射測量
反射測量方式分為鏡面反射和漫反射測量，在實際測量中，可以采用不同的參考白板和測量角度來進行區(qū)分。反射測量用于測定樣品的化學成分及表面顏色相關信息。
6、激光測量
根據(jù)激光光譜的特征，檢測系統(tǒng)配置高分辨率的光纖光譜儀，同時可用積分球或余弦校正器來衰減入射光，以避免CCD探測器的飽和。
7、熒光測量
熒光測量因其光譜信號特別弱，因此需要一個高靈敏的探測器及一個高效率的濾光片，將樣品激發(fā)出的微弱信號光和高強度的激發(fā)光區(qū)別開來。
8、氧含量測量
氧含量是通過光纖探頭熒光團的熒光強度的衰減來進行測量，應用熒光淬滅原理可以測量溶解氧或氣態(tài)氧的分壓，從而探測出環(huán)境的氧含量。
9、拉曼光譜測量
拉曼光譜與紅外吸收光譜同為研究物質(zhì)的分子振動能級從而分析物質(zhì)的組成，但相對于紅外吸收光譜，拉曼光譜的譜線較為簡單且具有*性，而且被測物不需進行前處理，因此在判斷物質(zhì)組成成分時有明顯的優(yōu)勢。拉曼光譜測量系統(tǒng)特別適用于反應過程監(jiān)控、產(chǎn)品識別、遙感及介質(zhì)中高散射粒子的判定。
10、激光誘導擊穿光譜(LIBS)測量
LIBS是一種用于固體、液體及氣體中進行實時、定性及半定量的光譜元素分析技術，其工作原理是高強度的脈沖激光聚焦在樣品表面，脈寬為10ns的激光脈沖蒸發(fā)樣品產(chǎn)生等離子體，隨著等離子體的冷卻，處于激發(fā)態(tài)的原子發(fā)射出元素的特征光譜，這個光譜被光纖探頭收集并傳送到光譜儀，通過光譜分析軟件中預存的樣品特征光譜進行比對分析。
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