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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合

玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku高精度測(cè)角儀

位錯(cuò)、表面穿透位錯(cuò)、外延層缺陷等晶體缺陷的無損檢測(cè)

該形貌測(cè)量系統(tǒng)通過采用新型高亮度微型射線光源、特殊的射線鏡面光學(xué)系統(tǒng)以及高分辨率、高分辨率的X射線相機(jī)，可以將測(cè)量時(shí)間縮短一個(gè)數(shù)量級(jí)與傳統(tǒng)方法相比。從樣品設(shè)置到測(cè)量的一切都可以自動(dòng)完成。
它可以無損檢測(cè)晶體缺陷，例如位錯(cuò)、表面穿透位錯(cuò)以及外延層缺陷。適用于Si、SiC、GaN、Ge、GaAs、石英、LN、LT、藍(lán)寶石、金紅石、螢石等各種單晶材料。

XRTmicron 概述

采用高亮度微型X射線光源

用于透射形貌圖的Mo射線源和用于反射形貌圖的Cu射線源可以通過計(jì)算機(jī)控制進(jìn)行切換。

采用特殊射線鏡光學(xué)系統(tǒng)

使用多層膜平行光束準(zhǔn)直器生成單色/平行光束。

與晶體準(zhǔn)直器兼容

高度平行的 X 射線束使我們能夠獲得對(duì)晶格畸變敏感的反射形貌。

切換方便

您可以通過計(jì)算機(jī)輕松地在觀察晶體內(nèi)部的透射形貌圖和觀察表面附近缺陷的反射形貌圖之間進(jìn)行切換。

使用高分辨率 X 射線 CCD 相機(jī)采集數(shù)字圖像。

使用形貌圖像的晶體缺陷分析軟件。

兼容各種晶圓尺寸。兼容 3、4、6、8、12 和 18 英寸。

它可以水平放置樣品，還可以自動(dòng)傳輸 3、4、6、8 和 12 英寸晶圓。

自動(dòng)曲率校正機(jī)制甚至可以根據(jù)曲率程度拍攝彎曲的晶體。

XRT微米規(guī)格

產(chǎn)品名稱	XRT微米
方法	射線形貌成像
目的	單晶材料的無損評(píng)價(jià)
技術(shù)	在透射和反射形貌之間切換
主要部件	高亮度微型X射線光源、專用X射線鏡光學(xué)系統(tǒng)、高分辨率/高分辨率X射線相機(jī)
選項(xiàng)	HR-XTOP 相機(jī)、晶體準(zhǔn)直器、傳送帶、晶體缺陷軟件
控制（電腦）	外部 PC、MS Windows® 操作系統(tǒng)
機(jī)身尺寸	1800（寬）×1980（高）×1950（深）（毫米）
大量的	約2200公斤（本體）
電源要求	三相200V，15A

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