具有可選光學(xué)器件的高精度測(cè)角儀

該 XRD 系統(tǒng)適用于所有薄膜 XRD 應(yīng)用，并具有 XY 可移動(dòng)平臺(tái)，可繪制最大 200 mm 的晶圓。

我們的系統(tǒng)可確保您的樣品保持完好無(wú)損，使您能夠毫無(wú)問(wèn)題地進(jìn)行額外的實(shí)驗(yàn)和分析。為您的所有研究和開(kāi)發(fā)需求提供最準(zhǔn)確、可靠的結(jié)果。

適用于近晶圓廠(chǎng)應(yīng)用的 XRD 系統(tǒng)映射工具

它可用于改進(jìn)材料分析、加強(qiáng)質(zhì)量控制和優(yōu)化制造工藝。

薄膜

• 精確的厚度和成分

• 水晶信息

• 應(yīng)力應(yīng)變分析

• 無(wú)損性能評(píng)價(jià)

• 多層分析

• 先進(jìn)材料開(kāi)發(fā)

XRR 厚度專(zhuān)用系統(tǒng)

確定薄膜、涂層和多層結(jié)構(gòu)的厚度、密度和界面粗糙度。

GaAs(004)、立方GaN(002)、六方GaN(0004)特性評(píng)估

精確分析晶體取向并控制材料生長(zhǎng)和加工，以實(shí)現(xiàn)電子和光電器件所需的性能。