超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜
Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。
Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。
Beneq C2R 為光學(xué)鍍膜和阻隔層等工業(yè)應(yīng)用中的高性能原子層沉積 （ALD） 提供最佳解決方案。
當(dāng)速度、成本、低工藝溫度和盡可能高的薄膜質(zhì)量是驅(qū)動因素時，Beneq C2R 是理想的產(chǎn)品。
技術(shù)亮點
超高沉積速率，高達每小時幾微米
批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓
適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板
膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用
可配備負載鎖或晶圓自動化。
自動化選項
Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。自動化服務(wù)包括：
Brooks MX400 基于集群的模塊
雙臂掃地機器人
樣品對準(zhǔn)器
可選預(yù)熱和冷卻
化工儀器網(wǎng)