EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

1、單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求

Advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and R&D

2、高效傳輸系統(tǒng)，智能軟件調(diào)度算法

Efficient transport system, intelligent software scheduling

3、高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆粒控制

Efficient remote plasma cleaning system, superior particle control

4、支持氣態(tài)硅烷、液態(tài) TEOS 和碳膜等工藝

Supporting SiH4 base ,TEOS base deposition and Carbon process

5、支持在線膜厚和清洗終點(diǎn)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

Supporting on-line film thickness and dry-clean endpoint detection

技術(shù)參數(shù)

1、晶圓尺寸 4/6/8 英寸兼容

2、適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳

3、適用工藝 氧化硅圖形化襯底層、鈍化層、絕緣層、掩膜層

4、適用領(lǐng)域 科研、化合物半導(dǎo)體、新興應(yīng)用、集成電路