目錄:沈陽科晶自動化設備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600GD高真空磁控濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600GD | |
| 安裝條件 | 本設備要求在溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜3.5KW 3、腔體內(nèi)徑：?300mm 4、極限真空8.0x10-5Pa 5、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 6、靶槍數(shù)量：4個 7、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 9、直流濺射功率：500W（可選） 10、射頻濺射功率：300W 11、載樣臺：?140mm 12、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 13、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 14、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | ·尺寸： 主機尺寸：850mm×760mm×660mm，整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm； ·重量：190kg | |
| 序號 | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | （可選）套 | - |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | - |
| 4 | 分子泵 | 1臺 | - |
| 5 | 冷水機 | 1臺 | - |
| 6 | 聚酯PU管（?6mm） | 4m | - |
| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | （可選） |  - |
| 2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | （可選） | - |
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