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科研級暗場金相顯微鏡WYJ-4XBD采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產業(yè)等觀察研究的理想儀器?？偡糯蟊稊担?0-600X
◆產品特點：
1、采用了先進的無限遠光路設計，提供了超卓的光學系統(tǒng)。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
4、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
5、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
6、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應用：
1、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性，3、分析金屬、礦相內部結構組織。
產品簡介
科研級暗場金相顯微鏡WYJ-4XBD采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。
詳細介紹
產品概述
規(guī)格參數
一、顯微鏡參數：
序號 | 名稱 | 技術參數 |
01 | 平場目鏡 | WF10X/φ22mm |
02 | 明暗平場物鏡 | 無限遠長距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.60、60X/0.75 |
03 | 總放大倍數 | 50X-600X |
04 | 觀察頭 | 雙目，鉸鏈式45°傾斜 |
05 | 轉換器 | 五孔(內向式滾珠內定位) |
06 | 粗調調焦范圍 | 粗微動同軸調焦,帶鎖緊裝置,微動格值:2μm |
07 | 載物臺 | 機械移動載物臺，外形尺寸：242mmX200mm，移動范圍30mmX30mm 圓形可旋轉載物臺板尺寸：大外徑φ130mm，小通光口徑小于φ12mm |
08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
09 | 濾色片 | 磨砂玻璃、黃、綠、藍濾色片 |
10 | 暗場照明 | 12V50W鹵素燈，亮度可調12V50W 內置視場光闌、孔徑光闌 |
11 | 偏光裝置 | 拉板式起偏器，檢偏器（可選配DIC微分干涉裝置） |
12 | 儀器重量 | 凈重7.0kg 毛重8.5kg |
13 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸18X25X33(cm) 包裝尺寸42X35X52(cm) |
二、目鏡參數：
型號 T ype | 放大倍率 Magnification | 視場直徑(mm) F.O.V | 外徑(mm) Tube diameter |
WF10X/22 | 10X | φ22 | φ30.0 |
三、物鏡參數：
放大倍率 Magnification | 數值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
5X | 0.12 | 2.10 | 9.70 | ∞ | 45 | 無 |
10X | 0.25 | 1.10 | 9.30 | ∞ | 45 | 無 |
20X | 0.40 | 0.70 | 7.23 | ∞ | 45 | 無 |
40X | 0.60 | 0.55 | 3.00 | ∞ | 45 | 無 |
60X | 0.75 | 0.42 | 1.90 | ∞ | 45 | 無 |