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賽默飛Nexsa X 射線(xiàn)光電子能譜儀描述：

賽默飛Nexsa X 射線(xiàn)光電子能譜儀材料分析和開(kāi)發(fā)

Nexsa 能譜儀具有分析靈活性，可最大限度地發(fā)現(xiàn)材料潛能。在使結(jié)果保持研究級(jí)質(zhì)量水平的同時(shí)，以可選多技術(shù)聯(lián)合的形式提供靈活性，從而實(shí)現(xiàn)真正意義上多技術(shù)聯(lián)合的分析檢測(cè)和高通量。

標(biāo)準(zhǔn)化功能催生強(qiáng)大性能： 

·絕緣體分析

·高性能XPS性能

·深度剖析

·多技術(shù)聯(lián)合

·雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴(kuò)展

·用于 ARXPS 測(cè)量的傾斜模塊

·用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生產(chǎn)的 Avantage 軟件

·小束斑分析

可選的升級(jí)：可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測(cè)分析中。式自動(dòng)運(yùn)行

·ISS：離子散射譜，分析材料最表面1-2原子層元素信息，通過(guò)質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導(dǎo)體材料的價(jià)帶能級(jí)結(jié)構(gòu)信息以及材料表面功函數(shù)信息

·拉曼：拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結(jié)構(gòu)層面的指紋信息

·REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測(cè)以及材料能級(jí)結(jié)構(gòu)和帶隙信息

借助 SnapMap 的光學(xué)視圖，聚焦于樣品特征。光學(xué)視圖可以幫助您快速定位感興趣區(qū)域，同時(shí)生成聚焦的 XPS 圖像，以進(jìn)一步設(shè)置您的實(shí)驗(yàn)。

1.X 射線(xiàn)照射樣品上的一個(gè)小區(qū)域。

2.收集來(lái)自這一小區(qū)域的光電子并將其收集于分析儀

3.隨著樣品臺(tái)的移動(dòng)，不斷收集元素圖譜

4.在整個(gè)數(shù)據(jù)采集過(guò)程中監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)位置，這些位置的圖譜成像用來(lái)生成 SnapMap 

賽默飛Nexsa X 射線(xiàn)光電子能譜儀應(yīng)用領(lǐng)域 

·電池

·生物醫(yī)藥

·催化劑

·陶瓷

·玻璃涂層

·石墨烯

·金屬和氧化物

·納米材料

·OLED

·聚合物

·半導(dǎo)體

·太陽(yáng)能電池

·薄膜