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[供應(yīng)]AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)
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  • AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)
貨物所在地:
上海上海市
產(chǎn)地:
上海
更新時(shí)間:
2022-11-06 21:00:07
有效期:
2022年11月6日 -- 2023年5月6日
已獲點(diǎn)擊:
178
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng) 采用 消除像差 的光學(xué)設(shè)計(jì),*以商用設(shè)備實(shí)現(xiàn) μm 量級(jí)超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場(chǎng)測(cè)量,并提供焦距、成像分辨率、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)、調(diào)制傳遞函數(shù)、斯特列爾比、數(shù)值孔徑、偏折效率等關(guān)鍵測(cè)量指標(biāo)分析。結(jié)合豐富的偏振器件,為您帶來一款“專業(yè)化"的超表面與超透鏡光場(chǎng)檢測(cè)平臺(tái)。

詳細(xì)介紹

AR-Meta,專業(yè)化的“超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)” 
μm 級(jí)器件尺寸 / 1.7μm 近紅外拓展 / 光場(chǎng) + 焦距 + 成像分辨率 


      AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng) 采用 消除像差 的光學(xué)設(shè)計(jì),*以商用設(shè)備實(shí)現(xiàn) μm 量級(jí)超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場(chǎng)測(cè)量,并提供焦距、成像分辨率、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)、調(diào)制傳遞函數(shù)、斯特列爾比、數(shù)值孔徑、偏折效率等關(guān)鍵測(cè)量指標(biāo)分析。結(jié)合豐富的偏振器件,為您帶來一款“專業(yè)化”的超表面與超透鏡光場(chǎng)檢測(cè)平臺(tái)。


AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)

典型應(yīng)用領(lǐng)域:
       超表面器件   超表面器件在空間上具有復(fù)雜的光場(chǎng)調(diào)控能力,需要在微米尺度下掃描光場(chǎng)。
       超透鏡   受限于設(shè)計(jì)規(guī)模和微納加工能力,超透鏡難以實(shí)現(xiàn)較大口徑。面向折射型透鏡的傳統(tǒng)檢測(cè)工具已無法滿足該類器件的光學(xué)性質(zhì)表征需求,針對(duì)超透鏡特點(diǎn)設(shè)計(jì)的檢測(cè)平臺(tái)應(yīng)運(yùn)而生。
       微透鏡   口徑在數(shù)百微米以下的微透鏡及陣列,在集成光學(xué)中已開始發(fā)揮重要作用,受限于透鏡口徑,當(dāng)前缺乏商用化的微透鏡光學(xué)指標(biāo)檢測(cè)平臺(tái)。
      
      
      AR-Meta 超表面光場(chǎng)檢測(cè) 在以上領(lǐng)域的應(yīng)用得益于如下幾個(gè)特點(diǎn): 1  μm 量級(jí)測(cè)量區(qū)域  AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺(tái),配合消除像差的準(zhǔn)直及成像光路,完美實(shí)現(xiàn) μm 量級(jí)超表面器件光場(chǎng)檢測(cè);  2  超過 7 項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo)  圍繞超表面器件及超透鏡領(lǐng)域的研究熱點(diǎn),AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) (PSF)、調(diào)制傳遞函數(shù) (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數(shù)值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過 7 項(xiàng)衡量器件光學(xué)性質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo); 3  寬 380~1700nm 譜段  AR-Meta 內(nèi)部支持兩個(gè)譜段:可見和近紅外 (含 850nm,1310nm,1550nm),并通過高穩(wěn)定切換部件實(shí)現(xiàn)了兩者的切換,與之匹配的是可以通過外部接口,引入多種波長(zhǎng)的激光光源; 4  反射 + 透射  AR-Meta 具有獨(dú)立的反射與透射兩套光路,能夠輕松實(shí)現(xiàn)反射情況下 0~20mm 縱深,透射情況下 0~2mm 縱深的光場(chǎng)掃描;  5  工程化設(shè)計(jì)  AR-Meta 在設(shè)計(jì)中充分考慮了光路切換的穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)了控制的自動(dòng)化,保障良好用戶體驗(yàn); 6  除此之外,內(nèi)秉的線偏振與圓偏振器件,多種濾色片的選擇等,使 AR-Meta 的應(yīng)用覆蓋了超表面檢測(cè)所需要的多數(shù)場(chǎng)合。
      
      了解更多內(nèi)容: 如何在顯微尺度測(cè)量不同角度的光譜? 

 
 復(fù)享超表面光場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)的相關(guān)參考文獻(xiàn) 
? "Metalenses at visible wavelengths: Diffraction-limited focusing and subwavelength resolution imaging." Science (2016).
影響因子:37.205,單位:哈佛大學(xué)/工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院,通訊作者:Federico Capasso1
? "A broadband achromatic metalens in the visible." Nature Nanotechnology (2018).
影響因子: 33.407,單位:臺(tái)北應(yīng)用科學(xué)研究中心/*研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Achromatic metalens bandwidth in the visible and metalens with reverse chromatic dispersion." Nano Letters(2017).
影響因子: 12.712,單位:哈佛大學(xué)/工程與應(yīng)用科學(xué)學(xué)院,通訊作者:Federico Capasso1
? "Metalenses: Advances and Applications." Advanced Optical Materials (2018).
影響因子:7.143,單位:臺(tái)北應(yīng)用科學(xué)研究中心/*研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Imaging Performance of Polarization-Insensitive Metalenses." ACS Photonics (2019).
影響因子:7.143,單位:加州大學(xué)河濱分校/化學(xué)系,通訊作者:Manuel Decker

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