化工儀器網(wǎng)
詳細(xì)介紹
n型有機半導(dǎo)體材料
PhC2-BQQDI和PhC3-BQQDI
本產(chǎn)品為n型有機半導(dǎo)體材料，其具有優(yōu)異的大氣穩(wěn)定性和電子遷移速度。
n型有機半導(dǎo)體材料PhCn-BQQDI，無論采用真空沉積法，還是涂布法，均可形成再現(xiàn)性良好的成膜，但C2體（n=2）適合涂布法，而C3體（n=3）適合氣相沉積法。
◆基本信息
PhC2-BQQDI | PhC3-BQQDI | |
名稱 | benzo[de]isoquinolino[1,8-gh]quinoline diimide（BQQDI）在骨架的亞胺基的氮原 子上連有苯乙基（-C2H4Ph）。 | benzo[de]isoquinolino[1,8-gh]quinoline diimide（BQQDI）在骨架的亞胺基團的氮 原子上連有苯丙基（-C3H6Ph）。 |
結(jié)構(gòu)式 |
|
|
實物圖 |
|
|
包裝 | 氬氣填充 | |
外觀 | 紅色~紅棕色，結(jié)晶性粉末~粉末 | |
◆特點
可用于氣相沉積法和涂布法的高性能n型有機半導(dǎo)體材料。
■ 高遷移性
· 涂布結(jié)晶形成的單晶在大氣中的電子遷移速度為3 cm2/Vs
· 真空蒸鍍膜在大氣中的電子遷移速度超過0.6 cm2/Vs
■ 高穩(wěn)定性
· 可在大氣中長期保持穩(wěn)定，不受器件結(jié)構(gòu)的影響
· 單晶有機薄膜晶體管（OFET）可維持半年以上，蒸鍍法OFET可維持一個月以上
· 遷移性降低率小于10%
■ 高耐性（PhC2-BQQDI）
· 在單晶OFET中，選擇任意基板，都具有超過150°C的高耐熱應(yīng)力
· 良好的偏壓應(yīng)力
◆數(shù)據(jù)
①PhC2-BQQDI
LUMO能級估算、大氣·熱穩(wěn)定性評估
● 通過循環(huán)伏安法（Cyclic Voltammetry，簡稱CV），估計LUMO為?4.11 eV（4-Hep-BQQDI具有優(yōu)異的溶解性）
● 通過熱重-差熱分析法（Thermogravimetry?Differential Thermal Analysis，簡稱TG?DTA），在421 °C下未觀察到
分解或相變的熱異常
● 大氣儲存下采用氣相沉積法形成的100 nm薄膜在1個月內(nèi)的紫外-可見光（UV-Vis）光譜無變化。
團聚體結(jié)構(gòu)
呈磚砌型團聚體結(jié)構(gòu)，能夠觀察到相鄰BQQDI骨架之間的多分子相互作用，并可實現(xiàn)二維電荷傳輸。
PhC2-BQQDI的單晶OFET
元件結(jié)構(gòu) | 大氣下的輸出特性 |
|
|
|
|
②PhC3-BQQDI
PhC3-BQQDI單晶結(jié)構(gòu)與LUMO之間的轉(zhuǎn)移積分。
評估大氣中真空氣相沉積OTFT特性（通道長/寬=100 µm/1000 µm）
（a）OTFT結(jié)構(gòu)圖
（b）PhC2-BQQDI和（c）PhC3-BQQDI在飽和區(qū)隨基板溫度變化的傳輸特性（漏極電壓：50 V）
藍線：室溫、綠線：100°C、紅線：180°C
（d）PhC2-BQQDI及（e）PhC3-BQQDI的遷移速度在大氣中的經(jīng)時變化
③PhC2-BQQDI與PhC3-BQQDI
化合物 | 基板溫度 | 平均（最大）遷移速度 （cm2 V-1S-1）? | 平均閾值電壓 （V）? | 接觸電阻 （kΩ cm）? |
PhC2-BQQDI | 室溫 | 0.29（0.30） | 4.6 | 4.8±0.6 |
100°C | 0.54（0.54） | 3.3 | 5.8±0.5 | |
180°C | 0.64（0.65） | 3.5 | 4.7±0.4 | |
PhC3-BQQDI | 室溫 | 0.32（0.33） | 3.2 | 1.7±0.3 |
100°C | 0.51（0.53） | 1.4 | 4.3±0.6 | |
180°C | 0.65（0.70） | 2.5 | 3.2±0.5 |
?：在飽和區(qū)（漏極電壓=50 V）時評估
?：柵極電壓=50 V時的估算值
| 產(chǎn)品編號 | 產(chǎn)品名稱 | 產(chǎn)品規(guī)格 |
| 165-28601 | PhC2-BQQDI | 100 mg |
| 166-28871 | PhC3-BQQDI | 100 mg |
化工儀器網(wǎng)