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PHI Quantera II-X射線光電子能譜
  • PHI Quantera II-X射線光電子能譜
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貨物所在地:北京北京市

更新時間:2023-12-31 21:00:06

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Z高性能 PHI Quantera II
從7.5μm至大區(qū)域分析中體現(xiàn)Z強(qiáng)性能的XPS

簡介

PHI Quantera II掃描XPS探針是ULVAC-PHI公司最新研發(fā)的XPS分析儀器,是在業(yè)界獲得非常卓.越成績的Quantum 2000和Quantera SXM的基礎(chǔ)上延申出來的,其革命性技術(shù)包括有:一個獨(dú).創(chuàng)的聚焦掃描X射線源,專.利的雙束中和技術(shù),在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析,一個精密的五軸樣品臺和負(fù)責(zé)全自動樣品傳送的機(jī)械手臂,以及一個*自動化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制的儀器操作平臺。Quantera II 增加了這些革命性的技術(shù)性能,極大的提高了生產(chǎn)力,再一次提供了最高性能的XPS系統(tǒng),以滿足您當(dāng)前和未來的XPS需要。

 

PHI Quantera II 掃描XPS探針

 

優(yōu)點(diǎn)

操作簡單

無論您是在分析一個薄膜樣品、有機(jī)聚合物、一個大的塑料鏡片,不銹鋼刀片或是焊錫球等,儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是*相同的。操作者只需用鼠標(biāo)在樣品的光學(xué)圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域,打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調(diào)整功能,就可以通過儀器軟件的自動隊(duì)列(Add Q)執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整,不用因樣品成分不一致而有任何顧慮,甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊,一切的操作都可以自動的完成。

 

圖2 - 全自動無人值守,分析無憂的XPS Quantera II

 

薄膜分析

  • Quantera II 不僅提供了無機(jī)薄膜樣品良好的深度剖面分析性能,而且也可以利用C60離子槍對有機(jī)薄膜得出非常*的深度分析結(jié)果。

 

(a)(b) 

圖3 - (a) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導(dǎo)體封裝的錫球表面進(jìn)行深度分析;

(b) 使用10 keV C60離子源,對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進(jìn)行深度分析。

 

掃描 XPS探針

PHI Quantera II使用了獨(dú).創(chuàng)的聚焦掃描X射線源,使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示,X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的,由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽極上時,所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為7.5微米以下到400微米以上。

 

圖4 - (a) PHI 獨(dú).創(chuàng)的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標(biāo)樣所生的二次電子像,可見

以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。

 

微區(qū)光譜

以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學(xué)顯微鏡下,透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi),Quantera II儀器就可以利用一個直徑為20微米的X射線束對污染物成分進(jìn)行分析,從而確定為氟碳污染物。

 


圖5 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點(diǎn)采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖(留意分布中右邊較小點(diǎn)的污染不含有氟或碳)。 (e) 對較小的污染做點(diǎn)分析,使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。

 

 

特點(diǎn)

  • X射線探針≤5微米的空間分辨率

  • 高靈敏度的靜電檢測光學(xué)系統(tǒng)

  • 雙束中和系統(tǒng)

  • 自動化的樣品傳輸處理

  • 儀器可容納最大樣品直徑為100毫米,高度為25毫米

  • 兩個內(nèi)部樣品平臺暫停區(qū)

  • 高性能的離子槍

  • 高速的深度分析

  • 元素態(tài)或化學(xué)態(tài)的XPS成像

  • 自動角分辨分析

  • PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件

 

可選配件

  • 樣品定位系統(tǒng) (SPS)

  • 熱/冷樣品臺

  • 冷樣品引入裝置

  • 樣品傳輸管和外部測試站

  • C60離子槍

  • Ar2500 GCIB離子槍

 

應(yīng)用范圍

  • 化學(xué):化學(xué)涂料,聚合物,催化劑

  • 材質(zhì):金屬,薄膜,納米材料

  • 電子:半導(dǎo)體,磁盤,微電子技術(shù)和顯示技術(shù)

  • 生物醫(yī)學(xué)與生物醫(yī)學(xué)設(shè)備


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