關鍵詞:多肽合成與修飾技術服務|實驗技術服務
簡介：世界*品牌多肽合成與修飾技術服務|實驗技術服務原裝，質量保證,*。
多肽合成與修飾技術服務|實驗技術服務——pCzn1質粒+Arctic Express宿主菌低溫表達體系。
我們具備豐富的蛋白表達設計經(jīng)驗及實驗操作技巧，承諾客戶不成功不收費。我們所有的實驗數(shù)據(jù)真實可信，我們提供原始的表達菌株和克隆質粒，客戶可以依據(jù)我們的實驗報告重復我們的實驗結果。
產(chǎn)品品牌：   http://www.。。ｃｏｍ/goodsid/fenleiyi/2868603/1.html    
測序實驗流程：
具體合成由下列幾個循環(huán)組成：
1） 去保護：Fmoc保護的柱子和單體必須用一種堿性溶劑（piperidine）去 除氨基的保護基團。
2） 激活和交聯(lián)：下一個氨基酸的羧基被一種活化劑所活化。活化的單體與游離的氨基反應交聯(lián)，形成肽鍵。在此步驟使用大量的超濃度試劑驅使反應完成。循環(huán)：這兩步反應反復循環(huán)直到合成完成。
3） 洗脫和脫保護：多肽從柱上洗脫下來，其保護基團被一種脫保護劑（TFA） 洗脫和脫保護。
試劑檢測：沒有選購在線檢測附件的多肽合成儀用戶，也可以采用試劑檢測方法做基本的耦合效果測定實驗。
固相多肽合成中，主要是通過檢測樹脂上游離氨基來判斷連接效率，檢測方法稱為Kaiser方法，其檢測結果，如果有游離氨基的時候，顯示蘭色，或紅褐色（pro，ser，His）。
Kaiser試劑包括：A，6% 茚三酮的乙醇溶液；B，80% 苯酚的乙醇溶液；C，2% 0.001M KCN的吡啶溶液
用線型梯變以每分鐘 0.5% 到 1.0% 改變的速度混合。常見分析和純化用柱為 4.6× 250mm (3-10μ m) 和 22× 250mm (10μ m). 如果用徑向填柱，那么大小是 8×100 ( 3-10μ m )和 25× 250mm (10μ m)大量各種緩沖劑含許多不同試劑，比如 heptafluorobutyric 酸， 0.1% 磷酸， 稀 Heformic 酸 (5-6%, pH2-4), 10 -100mM NH4HCO3, 醋酸鈉 / 氨， TFA/TEA ，磷酸鈉或鉀，異戊酚。這樣許多不同組合可形成緩沖劑，但要注意一點：硅反相柱料不能長時間暴露于高 pH ，甚至微堿 pH ， 因為這樣會破壞柱子一般多肽分離拿150mm的柱子就可以了，250mm在分離度上改善不大，因為多肽的分離機理和小分子不同。小分子是通過液液交換，所以柱子越長交換越充分，分離度也越高。
Asp和Glu 
Asp和Glu側鏈羧基常用t-Bu保護.可用TFA、TMSBr等脫除.但是用t-Bu保護仍有側鏈環(huán)化形成酰亞胺的副反應發(fā)生.近年來，發(fā)展了一些新的保護基如環(huán)烷醇酯、金剛烷醇酯等可減輕這一副反應，這些保護基可用TMSOTf(三氟甲磺酸*硅烷酯)除去.
Ser、Thr和Tyr
ser、Thr的羥基及Tyr的酚羥基通常用t-Bu保護.叔丁基的引入比較麻煩，首先ser制成芐氧羰基酯，再在酸催化下與異丁烯反應.Ser和Thr還可用芐基保護，Ser用芐醇引入芐基、Thr用溴芐引入芐基.
Asn和Gln 
Asn和Gln側鏈的酰胺鍵在肽合成中一般不加以保護.但合成大肽時，Asn和Gln的α-羧基活化時可能會發(fā)生分子內(nèi)脫氫反應生成氰基化合物.堿性時Gln的側鏈可以環(huán)化生成酰胺.而且不保護的Fmoc-Gln和Fmoc-Asn在DCM中溶解度很差.為了避免這些問題，可以用9-咕噸基，2，4，6-*氧芐基，4，4′―二甲氧二苯甲基或三苯甲基等保護，這四種基因均可用TFA脫除.
His 
His是zui容易發(fā)生消旋化的氨基酸，必須加以保護.
對咪唑環(huán)的非π-N開始用芐基(Bzl)和甲基磺?；?TOS)保護.但這兩種保護基均不太理想.TOS對親核試劑不穩(wěn)定，Bzl需要用氫解或Na/NHs除去，并且產(chǎn)生很大程度消旋.Boc基團是一個較理想的保護基，降低了咪唑環(huán)的堿性，抑制了消旋，成功地進行了一些合成.但是當反復地用堿處理時，也表現(xiàn)出一定的不穩(wěn)定性在堿中穩(wěn)定，但是沒能很好地抑制消旋，而且脫保護時要用很強的親核試劉如.
對咪唑環(huán)π-N保護，可以*抑制消旋，π-N可以用芐氧甲基(Bom)和叔丁氧甲基(Bum)保護，(Bum)可以用TFA脫除，Bom更穩(wěn)定些，需用催化氫解或強酸脫保護，Bum是目前很有發(fā)展前途的His側鏈保護基，其不足之處在于Fmoc(His)Bum在DCM和DMF中的溶解度較差.
Cys 
Cys的-SH具有強親核性，易被酰化成硫醚，也易被氧化為二硫鍵，必須加以保護.常用保護基有三類:一類用TFA可脫除，如對甲芐基、對甲氧芐基和三苯甲基等;第二類可用(CF3CO)3T1/TFA脫除，對TFA穩(wěn)定.如t-Bu、Bom和乙酰胺甲基等.第三類對弱酸穩(wěn)定，如芐基和叔丁硫基(stBu)等，Cys(StBu)可用巰基試劑和磷試劑還原，Cys(Bzl)可用Na/NH3(1)脫保護.
Arg 
Arg的胍基具有強親核性和堿性，必須加以保護.理想的情況是三個氮都加以保護，實際上保護1或2個胍基氮原子.保護基分四類:(1)硝基(2)烷氧羰基(3)磺酰基(4)三苯甲基.
硝基在制備、酰化裂解中產(chǎn)生很多副反應，應用不廣.烷氧羰基應主要有Boc和二金剛烷氧羰基(Adoc)2、Fmoc(Arg)Boc的耦聯(lián)反效率不高，理時不處穩(wěn)定，會發(fā)生副反應;Adoc保護了兩個非π-N，但有同樣的副反應發(fā)生.對磺?；Ｗo，其中TOS應用zui廣，但它較難脫除.近年來2，3，6-*基-4-甲氧苯橫酰基(Mtr)較受歡迎，在TFA作用下，30分鐘即可脫除，但是它們都不能*抑制側鏈的?；l(fā)生.三苯甲基保護基可用TFA脫除.缺點是反應較慢，側鏈仍有酰化反應，且其在DCM、DMF中溶解度不好.
Lys 
Lys的ε-NH2必須加以保護.但與α-NH2的保護方式應不同，該保護基要到肽鏈合成后除去.ε-NH2的保護無消旋問題，可以采用?；Ｗo基，其它常用的保護基有芐氧碳基
Fmoc基團的脫除 
Fmoc基團的芴環(huán)系的吸電子作用使9-H具有酸性，易被較弱堿除去，反應條件很溫和.反應過程可表示如下:進攻9-H,β消除形成二苯芴烯，很容易被二級環(huán)胺進攻形成穩(wěn)定的加成物.Fmoc基團對不同的堿穩(wěn)定性不同，可根據(jù)實際條件選用.
多肽修飾服務：包括同位素標記( 2H, 15N, 13C)、聚乙二醇修飾、多種二硫鍵修飾、多種磷酸化、KLH、BSA、OVA、多肽的乙酰化、氨基化、甲基化、生物素標記、熒光等修飾。
修飾服務的特點
全面的熒光標記基團可選：例如熒光素（Fluorescein）， 異硫氰酸熒光素(FITC)， 四甲基羅丹明（Tetramethylrhodamine）， 磺酰羅丹明（Sulforhodamine）， Dinitrophenyl， Dansyl 等
修飾方式牢固：共價鍵結合，穩(wěn)定，不易被破壞
修飾方式多樣：熒光基團和多肽鍵之間還可以加入多種功能性linker
修飾位置靈活：N端、C端，或者中間序列均可