MA-1200 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設(shè)備

MA-1200 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設(shè)備

MA-1200 DNK大日本科研實驗·研究用曝光設(shè)備

實驗·研究用曝光設(shè)備

• 對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。

• 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。

• 對應(yīng)zui大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
• 實驗·研究用曝光設(shè)備

  			MA-1200	MA-1400
  基板尺寸			Max 200 x 200mm ø4" ～ ø6"	Max 400 x 400mm
  光源			超高壓水銀燈 ：500W or 1kW	超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
  外觀尺寸及重量	本體尺寸		W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
  	本體重量		400kg	400kg(包含無塵機房)
  	光源重量		－	250kg
  選購項			無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

  ※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽