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徠卡DM750M金相顯微鏡觀察金相試樣晶粒度

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徠卡DM750M金相顯微鏡觀察金相試樣晶粒度


徠卡DM750M金相顯微鏡觀察金相試樣晶粒度


一、徠卡DM750M倒置金相顯微鏡試樣制備

切割:將金相樣品進行切割,選取合適大小的部分。確保切割面平整,以便于后續(xù)操作。

鑲嵌與固定:通過鑲嵌將樣品固定在夾具中,使樣品在觀察過程中保持穩(wěn)定。

研磨與拋光:依次使用不同目數(shù)的砂紙對樣品進行研磨,從粗砂紙到細砂紙,使樣品表面逐漸平整光滑。最后用拋光布和拋光液對樣品進行拋光,直至表面呈現(xiàn)鏡面效果。這一步是為了消除樣品表面的劃痕和缺陷,提高觀察效果。

侵蝕:用合適的侵蝕劑對拋光后的樣品進行侵蝕,使晶粒邊界清晰顯示出來。侵蝕時間和侵蝕劑的濃度需根據(jù)樣品的材質(zhì)和晶粒度進行調(diào)整。


二、徠卡DM750M倒置金相顯微鏡顯微鏡設(shè)置與觀察

清潔顯微鏡:在觀察前,用干凈的擦鏡紙輕輕擦拭物鏡、目鏡等光學(xué)部件,以及載物臺,確保無雜物影響樣品放置和觀察。

開啟設(shè)備:打開徠卡DM750M倒置金相顯微鏡的電源開關(guān),讓光源預(yù)熱至穩(wěn)定。若顯微鏡連接了電腦,也需打開電腦及相關(guān)圖像采集軟件。

放置樣品:將制備好的金相試樣小心放置在載物臺上,使用載物臺夾具或壓片固定好樣品,避免樣品在觀察過程中移動。

選擇物鏡:根據(jù)觀察需求和放大倍數(shù)要求,選擇合適的物鏡。一般先使用低倍物鏡(如10倍)進行初步觀察,找到樣品的大致位置和整體形態(tài)。再根據(jù)需要切換到高倍物鏡(如40倍、100倍)觀察晶粒細節(jié)。

調(diào)節(jié)光路:調(diào)整孔徑光闌和視場光闌的大小,以控制光線的強度和照射范圍,使樣品獲得最佳的照明效果。

調(diào)焦操作:通過粗調(diào)焦旋鈕和微調(diào)焦旋鈕進行調(diào)焦,使樣品圖像清晰。在調(diào)焦過程中,要注意避免物鏡與樣品發(fā)生碰撞。

觀察與調(diào)整:通過目鏡或圖像采集軟件仔細觀察樣品的晶粒形態(tài)和結(jié)構(gòu)特征??烧{(diào)整光源的亮度、對比度等參數(shù),以優(yōu)化觀察效果。


三、徠卡DM750M倒置金相顯微鏡晶粒度評級與測量

對比評級法:將顯微鏡中觀察到的晶粒形貌與標(biāo)準(zhǔn)評級圖進行對比。標(biāo)準(zhǔn)評級圖一般根據(jù)相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制定,代表了不同晶粒度級別的晶粒形態(tài)。在多個不同的視場中進行觀察和對比,以提高評級的準(zhǔn)確性。

測量晶粒面積法:在顯微鏡下隨機選擇多個視場,使用圖像分析軟件(如ImageJ等)測量每個視場中一定數(shù)量的晶粒面積。也可通過目鏡中的測微尺手動測量晶粒的直徑等尺寸,再計算出晶粒面積。將測量得到的所有晶粒面積相加,除以晶粒數(shù)量,得到平均晶粒面積。根據(jù)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)中平均晶粒面積與晶粒度級別之間的對應(yīng)關(guān)系表或計算公式,確定晶粒度級別。

統(tǒng)計交點法:在顯微鏡的目鏡中或通過圖像分析軟件,在樣品圖像上放置一條已知長度的測試線(可以是直線或圓形)。沿著測試線仔細統(tǒng)計與晶粒邊界的交點數(shù)量。為保證結(jié)果的準(zhǔn)確性,可在多個視場中進行統(tǒng)計。根據(jù)交點數(shù)量、測試線長度以及晶粒度級別之間的關(guān)系公式進行計算,從而確定晶粒度級別。


四、徠卡DM750M倒置金相顯微鏡注意事項

在觀察過程中,要保持顯微鏡和樣品的清潔,避免灰塵和污漬影響觀察效果。

調(diào)節(jié)焦距和光路時,要耐心細致,確保圖像清晰、對比度合適。

在進行晶粒度評級和測量時,要遵循相關(guān)國家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),確保結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。


使用徠卡DM750M金相顯微鏡觀察金相試樣晶粒度需要遵循一系列嚴(yán)格的步驟和注意事項。通過正確的操作方法和先進的設(shè)備性能,可以獲得準(zhǔn)確、可靠的晶粒度評級和測量結(jié)果。


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