日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)PM2001N-3

日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)PM2001N-3

工作原理

光分解作用：可同時發(fā)射波長 254nm 和 185nm 的紫外光，這兩種波長的光子能量能夠直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O?）分解成臭氧（O?）；254nm 波長的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧（O）?；钚匝踉樱∣）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物分子發(fā)生氧化反應，生成揮發(fā)性氣體（如 CO?、CO、H?O、NO 等）逸出物體表面，從而清除粘附在物體表面上的有機污染物。

應用場景

電子行業(yè)：可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗，去除光刻膠、油污、指紋等污染物，提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。

光學行業(yè)：能對光學器件、石英晶體等進行清洗，去除表面的灰塵、油污和有機雜質，保證光學性能和成像質量。

材料處理領域：用于各種基材的預處理，如金屬和玻璃，可改善表面潤濕性，提高對粘合劑、油漆和涂料的附著力。

其他領域：在密封技術、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應用，有助于提高材料的表面性能和使用壽命。