化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>制冷設(shè)備>冷水機/冷卻循環(huán)水機>FLTZ-206 系統(tǒng)級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
FLTZ-206 系統(tǒng)級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
| 參考價 | ￥ 147900 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
- 品牌 冠亞恒溫
- 型號 FLTZ-206
- 產(chǎn)地 江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/2/27 16:13:50
- 訪問次數(shù) 121
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制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、低溫冷凍機、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 |
|---|---|---|---|
| 冷卻方式 | 水冷式 | 儀器種類 | 一體式 |
| 應用領(lǐng)域 | 化工,電子,航天,汽車,電氣 |
系統(tǒng)級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
系統(tǒng)級封裝測試循環(huán)機 直冷機Chiller
光刻工藝溫度控制chiller通過提供準確和穩(wěn)定的溫度控制，Chiller有助于提高光刻過程的質(zhì)量和效率，確保半導體制造過程中的高性能和可靠性。
案例三：光刻過程中冷卻水的溫度控制
應用描述：在某些高精度光刻過程中，需要使用冷卻水來維持光刻機部件的恒定溫度，以確保曝光過程中的穩(wěn)定性。
解決方案：使用Chiller為光刻機提供恒定溫度的冷卻水，以維持曝光頭和其他關(guān)鍵部件的工作溫度。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過準確控制冷卻水的溫度，減少了因溫度波動引起的曝光誤差，提高了光刻圖案的精度和一致性。
案例四：提高生產(chǎn)效率和良率
應用描述：在大規(guī)模生產(chǎn)中，保持光刻過程的穩(wěn)定性對于提高生產(chǎn)效率和良率影響比較大。
解決方案：在整個光刻車間部署Chiller系統(tǒng)，以實現(xiàn)對環(huán)境溫度和濕度的準確控制，同時為光刻膠儲存和處理系統(tǒng)提供適宜的溫度條件。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過全面的溫度控制，提高了光刻過程的整體穩(wěn)定性和重復性，從而提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品的良率。
光刻工藝溫度控制chiller通過提供準確和穩(wěn)定的溫度控制，Chiller有助于提高光刻過程的質(zhì)量和效率，確保半導體制造過程中的高性能和可靠性。
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