Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)是一種超高真空物理氣相沉積（PVD）系統(tǒng)，能夠同時生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學術研究。它適用于廣泛的應用領域，包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種超高真空沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您的研究需求提供定制化的解決方案。

關鍵特性：

·         通過結合納米顆粒和薄膜生成復雜材料。

·         使用NL-UHV技術生產(chǎn)無烴納米顆粒。

·         帶有負載鎖、烘烤和抽真空升級選項的超高真空系統(tǒng)。

·         渦輪分子泵/干式背抽泵組合。

·         最多可容納5個源的共聚焦端口幾何結構。

·         兼容第三方源。

·         提供旋轉、加熱和偏置選項的基底涂層。

·         保護人員和設備的安全聯(lián)鎖。

·         全自動化且由配方驅(qū)動的軟件。

Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)基本系統(tǒng)配置

• 沉積腔尺寸：450 mm
• 基礎真空度：<5×10?? Torr
• 沉積方向：向上濺射
• 樣品臺：4英寸晶圓，20轉/分鐘旋轉，Z軸移動用于樣品裝卸
• 抽真空系統(tǒng)：300升/秒渦輪分子泵，配備7.2立方米/小時干式前級泵
• 閥門：手動閥門、快門和線性驅(qū)動裝置
• 控制軟件：配方驅(qū)動工藝，電源控制和數(shù)據(jù)記錄
• 原位監(jiān)測：石英晶體微量天平用于工藝監(jiān)測和終點檢測
• 源端口：最多5個沉積源，2個共焦CF150和3個共焦CF100源端口
• 源類型：納米顆粒源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟源、K型離子源、射頻原子源可選配置：
• 5×10?? Torr基礎真空度（配備烘烤選項）
• 樣品臺：
• 直流偏壓用于納米顆粒加速
• 射頻偏壓用于樣品表面清潔
• 加熱至800°C
• 抽真空系統(tǒng)：700升/秒渦輪分子泵
• 獨立抽真空的裝載鎖和傳輸臂
• 系統(tǒng)烘烤
• 閥門、快門和線性驅(qū)動裝置的自動化選項
• 在渦輪分子泵前設置可調(diào)節(jié)擋板，以增加動態(tài)壓力范圍，用于在較低氣體流量下進行濺射