PL311 光刻膠剝離液
參考價(jià) | ¥ 200 | ¥ 160 | ¥ 120 |
訂貨量 | 1-99件 | 100-999件 | ≥1000件 |
- 公司名稱 深圳華億科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) PL311
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/11/27 16:01:43
- 訪問(wèn)次數(shù) 97
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等離子拋光機(jī),等離子電漿拋光鹽,混凝土脫模劑,建筑模板脫模劑,模板漆,金屬切削液,微乳化切削液,半合成切削液,超聲波清洗劑,脫脂除油劑,防銹劑,金屬抗氧化劑,光學(xué)玻璃清洗劑
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
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光刻膠剝離液 光刻膠去膠液 抗蝕劑剝離液 光刻膠清洗劑
產(chǎn)品概述:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311是針對(duì)半導(dǎo)體晶圓芯片制造過(guò)程而設(shè)計(jì),光刻膠層需要在制造過(guò)程結(jié)束時(shí),從襯底表面去除。本品采用極性非質(zhì)子有機(jī)溶劑、還原劑、阻蝕劑等成分,科學(xué)復(fù)配而成,水溶性好,表面張力低,清洗能力強(qiáng),可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污,不引入任何污染物,潔凈度高,對(duì)各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無(wú)腐蝕,無(wú)毒無(wú)刺激性氣味,環(huán)保安全,對(duì)人體與環(huán)境友好。
適用范圍:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311用于去除正型光刻膠,以及用于負(fù)片的返工處理。適用于半導(dǎo)體晶圓表面、LCD/OLED加工的光刻膠和CMOS圖像傳感器等返修芯片的紅膠,以及電子設(shè)備、電子儀器的清洗。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.去膠速度快,去膠能力強(qiáng),可迅速去除晶圓表面和襯底金屬表面的光刻膠等殘留物;
2. 光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)去除金屬離子污染物、粉塵顆粒物,無(wú)殘留;
3.材料相容性好,對(duì)襯底材料及金屬布線無(wú)腐蝕性;
4.無(wú)毒無(wú)刺激,不燃不爆,不含ODS(臭氧層破壞物質(zhì)),符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn)。
產(chǎn)品參數(shù):
外觀(原液) :無(wú)色透明液體
比重 :1.06±0.01
PH值 :10—11
氣味 :無(wú)
使用方法:
光刻膠剝離液(光刻膠去膠液)PL311根據(jù)不同要求原液或稀釋使用,稀釋比例不超過(guò)20倍;使用前請(qǐng)咨詢我司技術(shù)人員!
溫度:50-60℃
時(shí)間:5-10分鐘
注意:清洗設(shè)備建議選擇高頻超聲波清洗,避免因頻率過(guò)高震傷產(chǎn)品。
注意事項(xiàng):
如不慎進(jìn)入眼中應(yīng)立即用清水沖洗,人工清洗時(shí),請(qǐng)配戴防護(hù)手套;
儲(chǔ)存于陰涼干燥處,避免陽(yáng)光直射
包裝規(guī)格:
1加侖/桶