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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>其它分析儀器>其它通用分析> 韓國電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高

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韓國電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高

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    我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質(zhì)譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質(zhì)譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測(cè)等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規(guī)定的有害物質(zhì):鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備)、塑料(無鹵測(cè)試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、環(huán)境保護(hù)、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素和化合物檢驗(yàn)等等。銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測(cè)試,電鍍鍍層厚度檢測(cè)等。





能量色散X熒光光譜儀,ROHS ROHS2.0 REACH指令檢測(cè)儀|化合物分析|元素分析儀|土壤檢測(cè)儀|ROHS檢測(cè)儀|合金檢測(cè)儀|元素分析儀|礦石檢測(cè)儀|含鉛量檢測(cè)儀

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,電子,冶金,汽車,綜合

韓國電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高

應(yīng)用領(lǐng)域

分析各種電鍍鍍層厚度

鍍層檢測(cè):

2.1、常見金屬鍍層有:

鍍層

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

2.2、單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi),

可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

2.3、多層厚度范圍

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、鍍層層數(shù)為1-6層

2.5、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

2.6、鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

單層分析精度,以Ni舉例:(相對(duì)差值)

Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

技術(shù)指標(biāo)

多鍍層分析,1~5層;

測(cè)試精度:0.001 μm;

元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);

測(cè)量時(shí)間:10~30秒;

SDD探測(cè)器,能量分辨率為125±5eV;

探測(cè)器Be窗0.5mil(12.7μm);

微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換;

高清CCD攝像頭(200萬像素),準(zhǔn)確監(jiān)控位置;

多變量非線性去卷積曲線擬合;

高性能FP/MLSQ分析;

儀器尺寸:450×520×385mm。

圖譜界面

軟件支持無標(biāo)樣分析;

寬大分析平臺(tái)和樣品腔;

集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;

采用多種光譜擬合分析處理技術(shù);

鍍層測(cè)厚分析可達(dá)到0.001μm。

分析報(bào)告結(jié)果

直接打印分析報(bào)告;
報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF,EXCEL格式。

韓國電鍍膜厚檢測(cè)儀精度高



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