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NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 深圳市科時(shí)達(dá)電子科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2022/5/10 12:02:46
- 訪問次數(shù) 261
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本公司主要從事半導(dǎo)體進(jìn)口設(shè)備及輔助材料、醫(yī)療檢測設(shè)備等多領(lǐng)域的銷售，是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工材料及周邊產(chǎn)品；電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售，半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售；國內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術(shù)進(jìn)出口；醫(yī)療器械研發(fā)及銷售；醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用：
等離子誘導(dǎo)表面改性：就是通常所說的用等離子實(shí)現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)
等離子清洗：去除有機(jī)污染物
等離子聚合：對材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)
沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石)，以及其它薄膜
CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長：在需要的位置生長CNT或石墨烯。
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：
緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng)
不銹鋼或鋁制腔體
極限真空可達(dá)10-7Torr
RF淋浴頭，HCD或微波等離子源
高達(dá)12”(300mm)直徑的樣品臺
RF射頻偏壓樣品臺
水冷樣品臺
可加熱到的800 °C樣品臺
加熱的氣體管路
加熱的液體傳送單元
抗腐蝕的渦輪分子泵組
1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體，帶MFC
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動控制
菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護(hù)
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