日立ZA3000原子吸收分光光度計(jì)

偏振塞曼背景校正法適用于：石墨爐/火焰/氫化物發(fā)生法

開(kāi)機(jī)即可測(cè)，基線更穩(wěn)定。

通過(guò)偏振塞曼背景校正可獲得高可靠性的數(shù)據(jù)。

雙光束雙檢測(cè)器實(shí)時(shí)校正

兩個(gè)檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)樣品光束和參比光束，*實(shí)時(shí)的背景校正技術(shù)獲得可靠的結(jié)果。并且沒(méi)有光軸的機(jī)械切換，重復(fù)性和穩(wěn)定性更高。

新技術(shù)

雙注入技術(shù)

石墨爐分析時(shí)使用雙孔石墨管可有效提高靈敏度。雙孔石墨管使樣品和石墨管的接觸面積更大，提高了熱傳導(dǎo)效率，干燥過(guò)程的保持時(shí)間縮短，在同樣的分析時(shí)間里就可以使用更大的樣品體積進(jìn)行檢測(cè)，從而獲得更高的靈敏度，更低的檢出量。

自動(dòng)暴沸檢測(cè)功能

可提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。自動(dòng)檢測(cè)到暴沸，會(huì)在測(cè)定結(jié)果的數(shù)值后面標(biāo)記“P”。據(jù)此，可以確認(rèn)是否發(fā)生暴沸，并及時(shí)修正升溫程序。

石墨管自動(dòng)除殘

可有效減少樣品殘留，提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性。
兩種自動(dòng)除殘方式：
“加熱”模式，最大加熱時(shí)間和冷卻時(shí)間；
“溫度程序”模式，儀器內(nèi)置除殘溫度程序，最高除殘溫度是3000℃。

自動(dòng)進(jìn)樣器的連續(xù)注入功能

用自動(dòng)進(jìn)樣針吸入第一種試劑后，隔著空氣吸入下一種試劑，循環(huán)往復(fù)后將全部樣品一次注入C 型石墨管。
可有效減少試劑污染；節(jié)省40％進(jìn)樣時(shí)間；獲得相同的檢測(cè)結(jié)果，所需的基體改進(jìn)劑的用量或濃度更低。