特點：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達99％

? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量增大

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面

? 對準功能選項

? 多種工藝，適用于各種應用光學器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲，生物醫(yī)學器件，半導體IC，化學合成和*材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

PL600

基材尺寸，6“標準（尺寸較小，形狀不規(guī)則）

印記區(qū)：  與晶圓尺寸相同。

模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

壓印壓力: 1 psi標準

模具/基材自動釋放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外線曝光時間:在95％強度水平下2-3分鐘

對準功能: x，y，z和theta（精度2um）