高壓化學(xué)吸附儀

采用自主開發(fā)的SPID(SMART-PID)控溫技術(shù)，兼顧了低溫段和高溫段的升溫曲線的平滑度，較大可能的避免了由于出現(xiàn)升溫曲線波動(dòng)所帶來的異常峰；

? 采用進(jìn)口高壓高精度質(zhì)量流量控制器，實(shí)現(xiàn)了流量準(zhǔn)確控制，并且響應(yīng)時(shí)間快速;

? 熱導(dǎo)檢測器(TCD)靈敏度高，采用進(jìn)口高阻抗錸鎢絲，檢測器溫度波動(dòng)范圍小于0.05°C，大大提高了檢測的靈敏度， 同時(shí)具備很強(qiáng)的抗*力;

? 系統(tǒng)的死體積非常小，提高實(shí)驗(yàn)的重現(xiàn)性和靈敏度;

? 內(nèi)置恒溫箱體，確保氣路不存在任何冷點(diǎn)，包括接頭、閥門等;

? 內(nèi)置全自動(dòng)高壓切換閥，實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)流程全自動(dòng)化作業(yè)；

? 采用自動(dòng)升降式反應(yīng)爐，實(shí)現(xiàn)了實(shí)驗(yàn)過程全自動(dòng)化作業(yè)。結(jié)合強(qiáng)制冷系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)快速降溫;

? 可實(shí)現(xiàn)氣體在線氣體混合，方便完成各類催化表征實(shí)驗(yàn);

? 配備多種冷阱、過濾器、緩沖環(huán)，根據(jù)具體實(shí)驗(yàn)靈活使用;

? 儀器整體采用鋁合金模塊化設(shè)計(jì)及高強(qiáng)氧化表面處理技術(shù)，*;

? 擴(kuò)展性強(qiáng)，通過簡單的設(shè)置，儀器能與GC、MS、FTIR等儀器聯(lián)控，并且在儀器內(nèi)部氣路自動(dòng)切換到更優(yōu)路徑;

? VDSorbStation工作站兼容當(dāng)前主流的Windows操作系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)采集，編寫實(shí)驗(yàn)參數(shù)、編寫實(shí)驗(yàn)流程、自動(dòng)峰判斷、自動(dòng)計(jì)算峰值、自動(dòng)完成如金屬分散度、吸脫附量的計(jì)算等，并能夠根據(jù)客戶要求定制特殊的實(shí)驗(yàn)算法， 以完成更為復(fù)雜的實(shí)驗(yàn);

? 自定義實(shí)驗(yàn)流程，讓儀器不在是一臺(tái)“呆板”的分析儀器。

? 采用以太網(wǎng)通訊方式，更為方便和穩(wěn)定，并可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控。

 重現(xiàn)性：<2%

? 催化劑裝量：5～200mg

? 反應(yīng)壓力：0.1～10MPa

? 氣體流量范圍：0～100sccm（可擴(kuò)展）

? 氣體流量精度：<0.5%F.S.

? 反應(yīng)爐溫度：RT～1100℃（反應(yīng)壓力：<3MPa）

                       RT～800℃（反應(yīng)壓力：<10MPa）

? 反應(yīng)爐溫度控制精度：<0.1℃

? 反應(yīng)爐升溫速率：0~50℃/min

? 反應(yīng)爐升溫曲線平滑度：<0.5%

? 檢測器基線噪音:<30μA

? 檢測器基線漂移:<50μA/30min

? 檢測器溫度范圍：RT～250℃ 

? 檢測器溫度控制精度：<0.05℃

? 恒溫箱溫度范圍：RT～250℃

? 恒溫箱溫度控制精度：<1℃

? 蒸汽發(fā)生器溫度范圍：RT～ 250℃

? 蒸汽發(fā)生器溫度控制精度：<1℃

? 冷阱溫度范圍：-196℃～RT 

下一個(gè)：標(biāo)準(zhǔn)型化學(xué)吸附儀（VDSorb-91i）

高壓化學(xué)吸附儀