產地類別 | 國產 |
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產品名稱:PECVD等離子增強化學氣相沉積系統
產品型號:TF1200
PECVD等離子增強化學氣相沉積系統TF1200特征描述:
此款設備配有Plasma實現等離子增強,滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置,可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力,帶刻度的調節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用,工藝重復性好,對于石墨烯生長工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
TF1200主要功能和特點:
1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相;
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量;
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率;
4、能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
TF1200:
1、實驗中心:提供免費實驗服務(特殊材料實驗除外),幫助客戶了解電爐設備及實驗物品的性能等參數。(新用戶限免費實驗1次,老用戶*)。
2、技術咨詢:免費為客戶提供電爐設備與實驗材料相關的技術咨詢、常規(guī)技術服務等,設備配件更換,僅收成本費。
3、非標訂制:可根據實際客戶需要訂制爐膛尺寸,配置相應的對應規(guī)格配件。