聚焦離子束激光離子化納米質(zhì)譜成像系統(tǒng) (FILMER) -納米尺寸表面質(zhì)譜成像 FILMER基于二次離子質(zhì)譜技術(shù),集成了聚焦離子束,掃描電子顯微鏡和激光器。 功能 ? 二次離子質(zhì)譜  原理 用聚焦離子束濺射試樣表面,收集和分析排出的二次離子; 數(shù)據(jù)采集 這些二次離子的質(zhì)量/電荷比及質(zhì)譜可確定元素,同位素,或分子組成; ?激光二次中性質(zhì)譜(Laser-SNMS)  原理 用聚焦離子束濺射試樣表面,使用激光共振電離大多數(shù)濺射中性原子; 數(shù)據(jù)采集 與二次離子質(zhì)譜相同 ?聚焦離子束精細(xì)加工  可以通過(guò)連續(xù)Ga聚焦離子束連續(xù)濺射樣品表面除去想要除去的部分; ?二次離子質(zhì)譜及掃描電子顯微鏡觀測(cè)  可實(shí)現(xiàn)二次離子質(zhì)譜及掃描電子顯微鏡兩種觀測(cè)方式;  主要特點(diǎn): 1. 高空間分辨率 □ 橫向分辨率 < 40nm □ 質(zhì)譜分辨率 m/Δm >7000@m/z=56 2. 可原位加工和分析,避免暴露于空氣中 □ SEM小損傷觀測(cè),可定位值FIB相同位置; □ 可分析顆粒表面及橫截面; 3. 可實(shí)現(xiàn)激光二次中性質(zhì)譜 □ 與傳統(tǒng)SIMS相比可顯著改善信號(hào)靈敏度; □ 高靈敏度的有機(jī)化合物分析;
技術(shù)參數(shù):
性能 |
| 原始束流 | 30kV Ga+ | 橫向分辨率 | 40 nm | 測(cè)量范圍 | 500μm ~ 500nm | 質(zhì)譜分析 | 飛行時(shí)間(TOF) | 質(zhì)譜分辨率(m/z = 56) | m/Δm = 7000 | 激光器 | 飛秒激光器 | 激光波長(zhǎng) | 1030nm, 515nm, 355 nm, 257nm | 激光能量 | 10W / 1mJ (1030nm) | 掃描電子顯微鏡 | 30kV ~ 5 kV | 掃描電子顯微鏡橫向分辨率 | <30nm | 樣品尺寸 | X1cm×Y1cm×Z3mm | 機(jī)械操作 | 5軸 | 可選 | 電荷中和裝置, 轉(zhuǎn)移容器,等 |
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