CMD2000 化工研磨分散機(jī)
| 參考價(jià) | ￥ 198567 |
| 訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號(hào) CMD2000
- 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2018/4/22 1:43:54
- 訪問次數(shù) 446
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化工研磨分散機(jī)，化工研磨分散設(shè)備，化工研磨機(jī)，化工研磨設(shè)備是透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
化工研磨 如油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,炭黑等。
石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、大化工，精細(xì)化工產(chǎn)品等
他們主要的問題是這些固體顆粒分散在溶液中，顆粒比較大，不容易粉碎和分散 另外一種情況是他們的顆粒都比較小，但是容易抱團(tuán)。
化工研磨分散機(jī)的研磨分散效果 主要
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
和他們分散的效果
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以搞得額轉(zhuǎn)速和精密額頭是墳場(chǎng)重要的
是內(nèi)部結(jié)構(gòu)
一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將多級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
1 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
的參數(shù)和型號(hào) CMD20000，CMSD2000，CMOD2000
如
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 18 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
，化工研磨粉碎機(jī)，化工研磨機(jī)
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