磁控濺射陰極及靶材

美國Angstrom Sciences公司 濺射陰極及靶材

美國安斯超科學(xué)公司（Angstrom Sciences，Inc）成立于1988年, 是一家專業(yè)從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業(yè)公司。的磁場設(shè)計和*的水冷技術(shù)使其產(chǎn)品倍受歡迎。產(chǎn)品主要應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：航天航空，汽車，微電子，光源，光學(xué)，裝飾，顯示器，數(shù)據(jù)存儲等。

安斯超公司對磁控濺射靶陰極的磁體外形和冷卻循環(huán)結(jié)構(gòu)進行了科學(xué)合理地優(yōu)化設(shè)計，并且選取更強的磁體（比稀土磁體強30％），從而使安斯超的靶陰極比常規(guī)的靶陰有更為的性能。

核心技術(shù)及特點：

    1.  特殊設(shè)計的磁體結(jié)構(gòu)，使得磁場線跨度范圍更寬，從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性

2.  湍流冷卻技術(shù)，使得水流能夠更平緩的進入陰極，從而提高冷卻效果

3.  特殊設(shè)計的耙材固定結(jié)構(gòu)，使得耙材更換起來更簡單，降低停工期

4.  *的磁體材料 NdFeB，他的強度比其他的稀土磁體要強30%

 優(yōu)勢

l      *的靶材利用率，zui高可以達到50%，從而降低靶材成本

l      *的產(chǎn)品均勻性，zui高可以達到±3%

l      可以在更低的真空以及更高的功率下運行：zui低壓力可以達到10^-4TOR

l       我們的直接水冷結(jié)構(gòu)可以提高其功率密度達到250Watt s/in²

l      提高沉積速率

l      多樣的復(fù)合設(shè)計

l      高標(biāo)準(zhǔn)高效率

濺射靶陰極翻新

安斯超提供舊的靶陰極翻新服務(wù)，使您的靶陰有安斯超*的技術(shù)，滿足您的工藝要求。特別有利于大面積沉積鍍膜行業(yè)。

我們可以根據(jù)客戶現(xiàn)有陰極的狀況，分析現(xiàn)有的問題，提供切實可行的解決辦法，使得他們現(xiàn)有的陰極也會擁有Angstrom陰極的特點，更高的利用率，更好的均勻性，更高的功率密度等特點。

我們一直致力于為世界上企業(yè)提供全新陰極及陰極翻新的工作。他們是：BOCCT，IVT，LEYBOLD，Materials Science，MRC，Perkin Elmer，Sloan，Ulvac,VAC-TEK，Varian，Veeco，Denton Vacuum，in，

Fairchild Semiconductor等